實(shí)驗(yàn)八 真空蒸發(fā)鍍膜
yKX:Z4I/ J.CZR[XF# g%<{G/Tz ,=XS%g}l4 真空鍍膜屬于薄膜技術(shù)和薄膜物理范疇,廣泛應(yīng)用在電真空，電子學(xué)、光學(xué)、能源開發(fā)、現(xiàn)代儀器、建筑機(jī)械、包裝、民用制品、表面科學(xué)、以及原子能工業(yè)和空間技術(shù)中。它可以用來鍍制微膜組件，薄膜集成電路，半導(dǎo)體集成電路等所需的電學(xué)薄膜；光學(xué)系統(tǒng)中需要的反射膜，透設(shè)膜，濾光膜等各種光學(xué)薄膜；輕工業(yè)產(chǎn)品的燙金薄膜等等。由于真空鍍膜技術(shù)的迅速發(fā)展，從而使電子計(jì)算機(jī)的微型化成為可能，促進(jìn)了人造衛(wèi)星，火箭和宇航技術(shù)的發(fā)展。
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YV2pERl 所謂真空鍍膜就是指在真空中將金屬或金屬化合物沉積在基體表面上。從技術(shù)角度可分為40年代開始的蒸發(fā)鍍膜，濺射鍍膜和70年代才發(fā)展起來的離子鍍膜。束流沉積等四種。真空鍍膜能在現(xiàn)代科技和工業(yè)生產(chǎn)中得到廣泛應(yīng)用，主要在于它具有以下的優(yōu)點(diǎn)：①它可用一般金屬（鋁，鈦等）代替日益缺乏的貴重金屬（金，銀）并使產(chǎn)品降低成本，提高質(zhì)量，節(jié)省原材料。②由于真空分子碰撞少，污染少，可獲得表面物理研究中所要求的純凈，結(jié)構(gòu)致密的薄膜。③鍍膜時(shí)間和速度可準(zhǔn)確控制，所以可得到任意厚度均勻或非均勻薄膜。④被鍍件和蒸鍍物均可是金屬或非金屬，鍍膜時(shí)被鍍件表面不受損壞，薄膜與基體具有同等的光潔度。
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