[其它]真空蒸發(fā)鍍膜 [復制鏈接]

實驗八 真空蒸發(fā)鍍膜 ~jgd92
`{z  
)j](_kvK  
Mvux=Ws  
 u!(|y9p  
真空鍍膜屬于薄膜技術(shù)和薄膜物理范疇,廣泛應用在電真空，電子學、光學、能源開發(fā)、現(xiàn)代儀器、建筑機械、包裝、民用制品、表面科學、以及原子能工業(yè)和空間技術(shù)中。它可以用來鍍制微膜組件，薄膜集成電路，半導體集成電路等所需的電學薄膜；光學系統(tǒng)中需要的反射膜，透設膜，濾光膜等各種光學薄膜；輕工業(yè)產(chǎn)品的燙金薄膜等等。由于真空鍍膜技術(shù)的迅速發(fā)展，從而使電子計算機的微型化成為可能，促進了人造衛(wèi)星，火箭和宇航技術(shù)的發(fā)展。 yDPek*#^"q  
{zw#My   
所謂真空鍍膜就是指在真空中將金屬或金屬化合物沉積在基體表面上。從技術(shù)角度可分為40年代開始的蒸發(fā)鍍膜，濺射鍍膜和70年代才發(fā)展起來的離子鍍膜。束流沉積等四種。真空鍍膜能在現(xiàn)代科技和工業(yè)生產(chǎn)中得到廣泛應用，主要在于它具有以下的優(yōu)點：①它可用一般金屬（鋁，鈦等）代替日益缺乏的貴重金屬（金，銀）并使產(chǎn)品降低成本，提高質(zhì)量，節(jié)省原材料。②由于真空分子碰撞少，污染少，可獲得表面物理研究中所要求的純凈，結(jié)構(gòu)致密的薄膜。③鍍膜時間和速度可準確控制，所以可得到任意厚度均勻或非均勻薄膜。④被鍍件和蒸鍍物均可是金屬或非金屬，鍍膜時被鍍件表面不受損壞，薄膜與基體具有同等的光潔度。 @_;6L  
Z=#!FZ{  
本實驗通過鍍鋁反射境要達到的目的是：掌握真空蒸發(fā)鍍膜的原理和操作方法；熟悉金屬和玻璃片的一般清洗技術(shù)；了解薄膜厚度的光學干涉法測量方法。 dpy,;nqzeN  
gbvBgOp  
=&vV$UtV  
[*Lh4K  
1預習提要 qFay]V(O|  
%lujme  
真空鍍膜是以氣體分子動力學為理論基礎的技術(shù)性強的實驗。實驗前應復習在高真空高溫下固體蒸發(fā)的有關(guān)知識。預習首先要閱讀本書“真空基礎知識”部分，掌握本實驗所用的真空泵(機械泵，擴散泵)，真空計（熱偶計，電離計）的原理和使用方法。然后在熟讀本實驗時，要著重掌握真蒸發(fā)鍍膜的原理和實驗裝置的結(jié)構(gòu)；熟悉金屬元件 和玻璃片的清洗技術(shù)；了解薄膜厚度的光學干涉法測量原理和方法。在初步掌握上述知識和技能的基礎上，根據(jù)實驗內(nèi)容要求要自擬實驗步驟和操作程序，熟練掌握在試驗中提高薄膜質(zhì)量的操作技巧.   x[]n\\a?  
GE>&fG  
k v