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    [求助]鍍完膜后發(fā)霧 [復制鏈接]

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    離線liuwenbo1991
     
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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2018-10-17
    基材：SI片  膜料：GE+ZNS  鍍膜波段近紫外到14um，電子槍蒸發(fā)鍍膜，Mark II+離子源。鍍完膜后SI片發(fā)霧，通過調(diào)節(jié)鍍膜工藝（包括鍍膜溫度，材料沉積速率，離子源參數(shù)等等后依然發(fā)霧，哪位大咖有遇到過這種問題，幫忙解惑，謝謝
     
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    離線rexchou
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    只看該作者 1樓 發(fā)表于: 2018-10-19
    之前遇過發(fā)霧情況,是離子源被汙染到. p~3CXmUc~  
    請參考~
    離線ouyuu
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    只看該作者 2樓 發(fā)表于: 2018-10-20
    我覺得可能是MARKii離子源能量不夠造成的。 (b{ {B$O  
    MARK II離子源的特性是電流很大，電壓不高。 ,%KB\;1mn'  
    離子束的密度（電流）夠了，但是離子速度（電壓）不夠的話， k*-+@U"+  
    結晶大小還是沒法改變。 &UzZE17R  
    }>Os@]*'^(  
    樓主的設備加熱能到350度以上嗎？
    離線yangpaopao
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    只看該作者 3樓 發(fā)表于: 2018-10-23
    SI片不知道，熔石英鏡片出過同樣的問題，硅片加工完到你鍍膜前肯定被污染過，或者酒精等擦過
    離線dede
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    只看該作者 4樓 發(fā)表于: 2019-10-14
    頂一下
    離線jakzhou
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    只看該作者 5樓 發(fā)表于: 2019-11-17
    鍍膜溫度過高，氧化鈦高溫下結晶發(fā)霧！
    離線王少偉
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    只看該作者 6樓 發(fā)表于: 2020-03-05
    真空度不夠