[分享]VirtualLab：高NA物鏡聚焦的分析 [復(fù)制鏈接]

摘要 W@t{pXwLv  
K<vb4!9Z9  
高NA物鏡廣泛用于光學(xué)光刻，顯微鏡等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對(duì)這種鏡頭進(jìn)行光線追跡和場追跡分析非常方便。通過場追跡，可以清楚地展示不對(duì)稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。相機(jī)探測器和電磁場探測器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，可以讓用戶深入了解矢量效應(yīng)。 fq(3uE]nC  
 K)P].htw  

圖片:1-1Q210141S0B6.png

v$~ZT_"(
9  
4c,{Js  
建模任務(wù) )YPut.  
#9/S2m2\YG  

圖片:1-1Q210141Z3L0.png

./_4D}  
概觀 5e >qBw8t  
Gj- *D7X5  

圖片:1-1Q21014202H61.png

um=qT)/D  
光線追跡仿真 :pNu$%q  
JPM W|JT  
•首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為仿真引擎。 js[H $  
K*aGz8N  
•點(diǎn)擊Go！ nC@UK{tVa  
•獲得3D光線追跡結(jié)果。 ' p!\[*e  
Eemk2>iP?  

圖片:1-1Q2101423224L.png

1z-Q~m@@  
D8=a