摘要
$L2%u8}8: 'vbc#_; 高NA物鏡廣泛用于
光學(xué)光刻，
顯微鏡等。因此，在聚焦
仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對(duì)這種
鏡頭進(jìn)行
光線追跡和場(chǎng)追跡分析非常方便。通過(guò)場(chǎng)追跡，可以清楚地展示不對(duì)稱焦斑，這源于矢量效應(yīng)。
相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，可以讓用戶深入了解矢量效應(yīng)。
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$7'g Rb4 /LM4- S 建模任務(wù)
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