激光誘導損傷閾值是大功率光學系統(tǒng)中重要參數(shù)，其數(shù)值大小對激光系統(tǒng)的輸出功率與穩(wěn)定性具有重要影響。為了突破損傷閾值對激光光學系統(tǒng)輸出功率的限制，科研人員主要從制備薄膜工藝、激光特性、薄膜特性以及薄膜后工藝等方面開展研究。本文介紹了高反膜理論、制備工藝；綜述了近十年來國內(nèi)外對高反膜損傷研究的成果；闡述了激光特性、薄膜特性以及薄膜后工藝對薄膜損傷閾值的影響。在此基礎(chǔ)上，對提高高反膜損傷閾值的研究和發(fā)展趨勢進行了分析與展望。
