光學(xué)小菜雞:磁控濺射鍍膜資料
(2021-10-15 21:12) 
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`Wn0v2@a(~ 磁控濺射的資料真沒(méi)有。
$w[@L7'( 這東西就是個(gè)大號(hào)離子源，用離子源轟擊靶材，然后靶材濺出到基板表面堆積成薄膜。
L(`^T` >|6[uKrO 有兩種磁控濺射，一種是直接濺射成薄膜，一種是先濺射單質(zhì)，然后氧化或者氮化形成薄膜。
]'~'V2Ey p|(910OEQ 磁控濺射比蒸發(fā)鍍膜，一個(gè)是轟擊用的“子彈”不一樣，氬的重量是電子的幾個(gè)數(shù)量級(jí)，
c*~/[:} 所以轟擊出來(lái)的顆粒初速度要比蒸發(fā)出來(lái)的高非常多，堆積的致密性也要高很多。
NZ{kjAd3c 所以磁控濺射可以不考慮方向性（基板豎著橫著都可以），不用加熱，鍍膜速率高。
{'"A hiR / U6jlv3 但是磁控濺射的控制很麻煩，蒸發(fā)鍍膜普遍使用的水晶，光控都不太好做進(jìn)去。
W$:;MY>0f 一般用時(shí)間來(lái)控制
