Design Tool中,EdgeFilter的
功能是可以用來(lái)幫助設(shè)計(jì)邊緣濾波器的
結(jié)構(gòu)。一個(gè)簡(jiǎn)單的邊緣濾波器是基于四分之一堆棧的,在基板和入射介質(zhì)旁邊的幾個(gè)匹配層可以用來(lái)抑制通帶波紋。當(dāng)傾斜時(shí),高反射率區(qū)的寬度對(duì)S偏振光有增大的趨勢(shì),對(duì)P偏振光有減小的趨勢(shì),導(dǎo)致
偏振分離。四分之一
波長(zhǎng)堆棧不容易得到顯著改善,但是Thelen 已經(jīng)表明五層對(duì)稱(chēng)周期是可以作為邊緣濾波器的基礎(chǔ)的,其中p和s偏振邊緣可以重合。嚴(yán)格來(lái)說(shuō),這只是在一個(gè)入射角,但經(jīng)驗(yàn)表明,在一定
角度范圍內(nèi)分裂非常小。邊緣濾波器工具可以找到這樣一個(gè)對(duì)稱(chēng)的周期,并設(shè)計(jì)一個(gè)非偏振邊緣濾波器。該工具使用迭代技術(shù)來(lái)識(shí)別所有可能的組合,并找到通帶寬度和禁帶寬度的最佳組合,但是后者受到一定限制。
Zv_jy@k }I!hOD>]O 圖1顯示了
參數(shù)對(duì)話(huà)框。設(shè)置了兩種
材料的五層周期,入射角,入射介質(zhì)和周期數(shù)。該工具沒(méi)有解決紋波問(wèn)題,如圖2所示。在這里,用SiO2當(dāng)最外層最好。最后一步是鎖定所有層,然后對(duì)一些最外層進(jìn)行
優(yōu)化以減少波紋。在這種特殊情況下,每側(cè)的12個(gè)層都經(jīng)過(guò)了優(yōu)化,以得到圖3中的性能。
^o !O)D-q U5]pi+r 4TwQO$C 圖1.參數(shù)對(duì)話(huà)框,幾乎沒(méi)有必要更改搜索限制或搜索間隔
TbehR:B5g T'fcc6D5p 圖2.紋波消除前45°入射的原始結(jié)果
bhs(Qzx pfd#N[c 圖3.45°入射時(shí)最終的169層設(shè)計(jì)
A`u$A9[ 該工具的另一個(gè)功能是將公式插入到了編輯菜單的Formula對(duì)話(huà)框中,這樣就不必返回到Edge Filter對(duì)話(huà)框來(lái)更改重復(fù)次數(shù)。
T`9-VX;` Kwhdu<6 =D^TK-H 圖4.Formula對(duì)話(huà)框
3},Zlu (來(lái)源:訊技光電)