在各種光學(xué)千涉應(yīng)用和集成光學(xué)平面波導(dǎo)中,要求高質(zhì)量的介質(zhì)膜。很多無機化合物膜用普通鍍膜方法沉積很難達(dá)到要求的附著力、密度、硬度和低成本等條件�，F(xiàn)在正在研究用反應(yīng)氣體放電等離子體和荷能離子鍍膜材料原子處理等方法對無機化合物膜進行綜合研究。 is`le}$^y
在光學(xué)多層膜中，介質(zhì)膜很重要，因此,在光學(xué)鍍膜領(lǐng)域主要研究和制備用于各種濾光片、反射鏡和光波導(dǎo)的最佳化學(xué)配比、低吸收和高穩(wěn)定性光學(xué)膜的方法。已經(jīng)研究一種特殊的反應(yīng)沉積技術(shù)，改進了化學(xué)合成膜的光學(xué)和機械性質(zhì)。本文主要闡述荷能離子和等離子體鍍膜技術(shù)的進展。
