在各種光學(xué)千涉應(yīng)用和集成光學(xué)平面波導(dǎo)中,要求高質(zhì)量的介質(zhì)膜。很多無(wú)機(jī)化合物膜用普通鍍膜方法沉積很難達(dá)到要求的附著力、密度、硬度和低成本等條件�，F(xiàn)在正在研究用反應(yīng)氣體放電等離子體和荷能離子鍍膜材料原子處理等方法對(duì)無(wú)機(jī)化合物膜進(jìn)行綜合研究。 BP'36?=Zo
在光學(xué)多層膜中，介質(zhì)膜很重要，因此,在光學(xué)鍍膜領(lǐng)域主要研究和制備用于各種濾光片、反射鏡和光波導(dǎo)的最佳化學(xué)配比、低吸收和高穩(wěn)定性光學(xué)膜的方法。已經(jīng)研究一種特殊的反應(yīng)沉積技術(shù)，改進(jìn)了化學(xué)合成膜的光學(xué)和機(jī)械性質(zhì)。本文主要闡述荷能離子和等離子體鍍膜技術(shù)的進(jìn)展。
