傳統(tǒng)意義上，Essential
Macleod的設(shè)計是由一系列完全干涉的
薄膜組成，并只在基板的一側(cè)形成膜層。而Stack是由一組膜層和基板組成，基板的兩個面是平行的，以便在相同
材料中傳播角度相同。Stack中，膜層被介質(zhì)（或基底）分開，介質(zhì)（或基底）由其材料和厚度定義。入射介質(zhì)和出射介質(zhì)是半無限的，但其它介質(zhì)的厚度都是有限的。另一方面，膜層是繼續(xù)支持完全一致性，即完全干涉。這通常是真實膜層和基底的情況，即考慮基板后表面反射或者
鍍膜的情況。
LP) IL~ P7!gUxcv9Y 為什么介質(zhì)或基板不支持干涉？這是一個
系統(tǒng)問題�；宓暮穸韧ǔＲ院撩锥皇�
納米來測量，因此路徑差異非常長。入射角、
波長和厚度的微小變化，雖然對路徑差異的比例效應(yīng)很小，但對它們所代表的相位變化有很大影響，因為許多波長都涉及到這些路徑差異。當(dāng)各種
光線組合在一起時，干涉條紋會被沖掉，只留下總的輻照度。在單個設(shè)計文檔時，我們總是假設(shè)使用完全準(zhǔn)直的單色光，其中入射角和波長變化的相應(yīng)影響通常很小，可以忽略不計，從而在設(shè)計中存在完全相干效應(yīng)。
\oO &c mWuhXY^Q x)T07,3: 圖1.基板足夠厚時，無需考慮干涉效應(yīng)。如果考慮基板的干涉，要將基板看成一層薄膜，而整個系統(tǒng)看作一個膜系
A&_v:z4y/ 另一個問題是，如果角度或波長的變化仍然較大，即使設(shè)計中的層也顯示出減少的干涉效應(yīng)，那么會發(fā)生什么，什么叫做部分相干？此工具存在于Stack文檔中。計算
參數(shù)包括光中缺少準(zhǔn)直性（以圓錐半角表示）和缺少單色性（以
光譜帶寬表示）的影響。這些在Design文檔中不可用（除非在Stack中設(shè)置，稍后將介紹）。
]% UAN_T bj FND]p?w Stack中的第一列是標(biāo)題為Medium Type，這里有兩種選擇：Parallel以及Wedge。透射或反射的光將由某種接收器收集，這種接收器在計算中假定為均勻靈敏度。此接收器可能無法收集在不同表面之間來回反射后最終出現(xiàn)的所有光束。兩種極端情況是收集所有光束，以便沒有丟失，這種情況稱為Parallel。 另一個極端是它只收集從離它最近的表面反射一次的光束，這種情況被稱為Wedged。假設(shè)所有其他反射光束走出系統(tǒng)，在傳輸中，那么Wedge不收集反射光束。如果我們有
成像系統(tǒng)，Wedge計算代表形成的像，而Parallel計算代表所有可能的光。因此，它們之間的差異是雜散光。
