摘要
L8sHG$[ 8:E)GhX s=9gp$9m 干涉測(cè)量是一種
光學(xué)計(jì)量的重要技術(shù)。 它被廣泛應(yīng)用于表面輪廓,缺陷,
機(jī)械和高
精度熱變形等領(lǐng)域的測(cè)量。 作為一個(gè)典型的例程,在非
序列場(chǎng)追跡的幫助下,我們?cè)赩irtualLab Fusion中建立了具有相干
激光源的馬赫-曾德?tīng)?span onclick="sendmsg('pw_ajax.php','action=relatetag&tagname=干涉儀',this.id)" style="cursor:pointer;border-bottom: 1px solid #FA891B;" id="rlt_1">干涉儀,本案例清楚地展示了
光學(xué)元件的傾斜和移位對(duì)干涉條紋圖案的影響。
|d =1|C%, qP@d)XRQ 建模任務(wù)
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}@ X~wkqI#d%E tCH4-~,# 元件傾斜引起的干涉條紋