[分享]VirtualLab：馬赫-曾德爾干涉儀 [復(fù)制鏈接]

摘要 WV"{oED  
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干涉測(cè)量是一種光學(xué)計(jì)量的重要技術(shù)。 它被廣泛應(yīng)用于表面輪廓，缺陷，機(jī)械和高精度熱變形等領(lǐng)域的測(cè)量。 作為一個(gè)典型的例程，在非序列場(chǎng)追跡的幫助下，我們?cè)赩irtualLab Fusion中建立了具有相干激光源的馬赫-曾德爾干涉儀，本案例清楚地展示了光學(xué)元件的傾斜和移位對(duì)干涉條紋圖案的影響。 `_'I 9,.a  
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建模任務(wù) ; . c]0  
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元件傾斜引起的干涉條紋 Rd5r~iT
 
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元件移位引起的干涉條紋 @W^A%6"j  
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文件信息 g4I&3 M  
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更多閱覽 lFD$Mc  
-  Laser-Based Michelson Interferometer and Interference Fringe Exploration 0bpl3Fh.v  
-  Fizeau Interferometer for Optical Testing ;{Y|n_  
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