高NA(
數(shù)值孔徑)
物鏡常用于
光學(xué)顯微及光刻,并已廣泛在其他應(yīng)用中得以使用。眾所周知,在高數(shù)值孔徑物鏡的使用中,電磁場矢量特性的影響是不可忽略的。一個(gè)眾所周知的例子就是由高NA(數(shù)值孔徑)物鏡聚焦線性偏振圓
光束時(shí),焦斑的不對稱性:焦斑不再是圓的,而是拉長的。我們通過具體的物鏡
實(shí)例來說明了這些效應(yīng),并演示了如何在
VirtualLab Fusion中使用不同的
探測器分析焦斑。
0-at#r: lF#p1H>\ 高數(shù)值孔徑物鏡的聚焦分析
YIn
H8Ex J/xbMMb
高數(shù)值孔徑(NA)物鏡廣泛用于光學(xué)光刻、顯微
系統(tǒng)等。在對焦斑的
模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。
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