[求助]H4鍍AR膜掉膜 [復(fù)制鏈接]

用H4和SIO2鍍AR膜6層，H4用離子原輔助鍍膜，和不用離子源，鍍膜后水煮都會(huì)出現(xiàn)掉膜層，爐內(nèi)溫度，60度，用ZRO2和sio2就不會(huì)，求大神幫助分析一下原因，謝謝！

提高下溫度？我是用300° &uM?DQ`o8  
膜系我是用七層，sio2/h4

有油墨的攝影頭鍍膜，溫度不能高于80度，

鍍膜機(jī)是韓一的2050 霍爾離子原 C][`Dk\D{  
鍍手機(jī)的攝影頭，有絲印油墨，鍍膜溫度高于80度IR油墨會(huì)出問(wèn)題，鍍膜后水煮90度30分鐘后會(huì)掉膜層，攝影頭經(jīng)過(guò)超聲波清洗，鍍膜后還是會(huì)出現(xiàn)掉膜

這個(gè)建議換材料，用氧化鈦

H4穩(wěn)定性沒(méi)有氧化鈦好

打底層材料換下 FC(m)S2  
如果ZRO2不脫膜  建議打底層使用ZRO2     后面的用H4

懷膩是膜料有問(wèn)題，或者是鍍膜時(shí)H4或SIO2的應(yīng)力不匹配造成的。不知道誰(shuí)現(xiàn)在還在用H4鍍膜，鍍膜參數(shù)是什么？

可能是低溫鍍的膜不夠致密，導(dǎo)致水分透過(guò)膜作用到基材出現(xiàn)膜脫落。 而且H4本身耐濕性不是很好，建議用其他材料。 ZrO2可以的話(huà)，換成ZrO2不行嗎 4/HyO\?z5  

一般塑膠第一層用氧化鋁比較好。 ='>k|s:  
89~)