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Essential Macleod 是一套完備的光學(xué)薄膜分析與設(shè)計(jì)的軟件包，可以在所有 64/位32 位的Microsoft Windows操作系統(tǒng)下運(yùn)行，并且具有真正的多文檔操作界面；它能滿足光學(xué)鍍膜設(shè)計(jì)中的各種要求，從簡(jiǎn)單的單層膜到嚴(yán)格的分光膜；也能對(duì)波分復(fù)用（WDM）和密集波分復(fù)用（DWDM）濾波片進(jìn)行測(cè)評(píng)；可以從頭開(kāi)始設(shè)計(jì)也可以優(yōu)化已有的設(shè)計(jì)；可以勘測(cè)在設(shè)計(jì)中的誤差，也可以萃取設(shè)計(jì)用到的光學(xué)薄膜常數(shù)。 f.?p" ~!
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 FBit /0 Essential Macleod核心模塊的功能 SrMg=a bzFwQi}> •計(jì)算給定膜系的特性 3QL I|VpO )6?(K"T •對(duì)給定特性目標(biāo)要求優(yōu)化膜系設(shè)計(jì) O 0Fw!IQk -phwzR\(t •維護(hù)材料的光學(xué)常數(shù) T7f>u}T (_^p X •對(duì)已有設(shè)計(jì)進(jìn)行分析 20[_eu) l7G&[\~ •膜系設(shè)計(jì)的合并分析 7CfHL;+m<4 %T:~N<8) Essential Macleod可擴(kuò)展的功能 x!CCSM;q fV CpG~&t Runsheet QdaYP N?`-$C ] 這個(gè)工具可設(shè)計(jì)鍍膜制程，包含機(jī)器配置編輯器以及跑單生成器。機(jī)器配置中貯存了鍍膜機(jī)的詳細(xì)設(shè)置，材料源以及制具因子（Tooling）以及監(jiān)控系統(tǒng)。使用者可使用跑單生成器對(duì)既定的機(jī)器配置，進(jìn)行鍍膜設(shè)計(jì)的監(jiān)控規(guī)劃。該工具除了可同時(shí)具備光學(xué)與晶體監(jiān)控功能外，還具備諸如動(dòng)態(tài)加工因子和系統(tǒng)帶寬等高級(jí)特性。 [a~|{~?8 cx?XJ ) Simulator 8 VMe#41 K07b#`NF6 對(duì)于公差問(wèn)題， Simulator 通過(guò)蒙特卡羅（Monte Carlo）法在實(shí)際模型控制過(guò)程的擴(kuò)展來(lái)進(jìn)行解決。通過(guò)一個(gè)由 Runsheet 創(chuàng)建的控制計(jì)劃， Simulator 可模擬薄膜淀積控制，引入隨機(jī)和系統(tǒng)效應(yīng)，例如信號(hào)噪聲，加工因子的變動(dòng)，封裝密度誤差等等，以及顯示這些參數(shù)對(duì)于鍍膜制程的最終模擬結(jié)果的效應(yīng)。 N*.JQvbnr PprCz" Monitorlink ZJev_mj 3nVdws Monitorlink提供將Runsheet連結(jié)到一個(gè)淀積控制器的額外軟件。一個(gè)獨(dú)立的程序與控制器直接連接，而且一個(gè) Runsheet 的擴(kuò)展也賦予其產(chǎn)出和編輯淀積程序的功能。 =]r<xON%S VStack ;q:.&dak1 9I0}:J;7 VStack 是一種計(jì)算與優(yōu)化的工具﹐它也能計(jì)算這些系統(tǒng)中斜射光的效應(yīng)。當(dāng)光束斜入射時(shí)，初始為 p- 偏振態(tài)的光線最終會(huì)以 p - 偏振態(tài)從系統(tǒng)出射。同理，原本是 s - 偏振態(tài)光也會(huì)以 p - 偏振態(tài)出射，我們稱(chēng)此為 偏振泄漏 (polarization leakage) 現(xiàn)象。 VStack 能計(jì)算泄漏的大小而且提供泄漏元件的 Delta 值。 bYT,f.,5{ 0eQwi l@ Function 'bN\8t\S B4k ~~
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