[討論]光刻機(jī)，中國制造得出來嗎？ [復(fù)制鏈接]

之前瑞典的手表那么精湛的工藝，80年代上海手表也達(dá)到了他們的水準(zhǔn)

一定能造得出，只是時(shí)間問題。

相信中國力量，一定能

這個(gè)東西光是光學(xué)部分就難到不行不行的了，而且這個(gè)事還不僅是光學(xué)的事

電視機(jī)各個(gè)部分也很復(fù)雜，隨著時(shí)間的推移，世界各國基本上都能獨(dú)立制造。我想，光刻機(jī)也一樣吧！

我覺得能造成

光刻機(jī)，中國制造得出來嗎？

太難了

關(guān)于光刻機(jī)，荷蘭那種全球頂級(jí)的EUV光刻機(jī)

中國造出首臺(tái)自主新式光刻機(jī) 未來可造10nm芯片 Z<Rz}8s  
M=$y_9#  
北京時(shí)間11月29日，中科院光電技術(shù)研究所宣布國家重大科研裝備研制項(xiàng)目“超分辨光刻裝備研制”通過驗(yàn)收，成為全球首臺(tái)用紫外光源實(shí)現(xiàn)的22納米分辨率的光刻機(jī)。 O^I~d{M 5I  
`Y-uNJ'.N  
據(jù)中國《科技日報(bào)》報(bào)道，中科院光電技術(shù)研究所項(xiàng)目副總師胡松透露，新驗(yàn)收的光刻機(jī)，使用了365納米紫外光的汞燈，一只費(fèi)用僅為數(shù)萬元，而光刻機(jī)整機(jī)價(jià)格在百萬元至千萬元級(jí)。 l tr=_  
YBN. waL  
胡松還說，中科院光電技術(shù)研究所研制的光刻機(jī)加工能力介于深紫外級(jí)和極紫外級(jí)之間，“讓很多用戶大喜過望”。   3_2(L"S2  
~a8J"W
h  
全新路線，完美避開國外廠商專利 c?Bi  
qn#\ro1H  
光刻機(jī)是集成電路制造業(yè)的核心角色。光刻機(jī)相當(dāng)于一臺(tái)投影儀，將精細(xì)的線條圖案投射于感光平板，光就是一把雕刻刀。但線條精細(xì)程度有極限——不能低于光波長的一半�！肮馓�胖，門縫太窄，光就過不去了�！眳⑴c研究的科學(xué)家楊勇告訴記者。 6I(y`pJ  
wHk4BWg-  
目前，使用深紫外光源的光刻機(jī)是主流，成像分辨力極限為34納米，分辨率進(jìn)一步提高要用多重曝光等技術(shù)，很昂貴。 F8?&Ql/hdz  
Re('7m h~  
光刻機(jī)巨頭荷蘭ASML公司壟斷了尖端集成電路光刻機(jī)，加工極限為7納米。ASML的EUV光刻機(jī)使用的13.5納米的極紫外光源，價(jià)格高達(dá)3,000萬元，還要在真空下使用。 S=^yJ6xJ  
E27wxMU  
2003年中科院光電所開始研究一種新辦法：金屬和非金屬薄膜貼合，交界面會(huì)有無序的電子；光線照射金屬膜，使這些電子有序振動(dòng)，產(chǎn)生波長短得多的電磁波，可用于光刻。如此一來，“寬刀”就變成了“窄刀”。 Pv{ {zyc  
3=1aMQ  
胡松表示，該光刻機(jī)在365納米波長光源下，單次曝光最高線寬分辨率達(dá)到22納米，，相當(dāng)于1/17波長。項(xiàng)目在原理上突破分辨力衍射極限，建立了一條高分辨、大面積的納米光刻裝備研發(fā)新路線，具有完全自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)，為超材料/超表面、第三代光學(xué)器件、廣義芯片等變革性領(lǐng)域的跨越式發(fā)展提供了制造工具。擅長加工一系列納米功能器件，包括大口徑薄膜鏡、超導(dǎo)納米線單光子探測器、切倫科夫輻射器件、生化傳感芯片和超表面成像器件。 JY#IeNL  
6pI=?g  
報(bào)道稱，中科院光電技術(shù)研究所目前已掌握超分辨光刻鏡頭、精密間隙檢測、納米級(jí)定位精度工件臺(tái)、高深寬比刻蝕和多重圖形配套光刻工藝等核心專利，“技術(shù)完全自主可控，在超分辨成像光刻領(lǐng)域國際領(lǐng)先”。