《薄膜光學與薄膜技術基礎》

發(fā)布：cyqdesign 2020-06-01 23:03 閱讀：6561
《薄膜光學與薄膜技術基礎》是作者多年來從事薄膜光學與薄膜技術課程教學研究成果的總結�！侗∧す鈱W與薄膜技術基礎》共分三篇13章：第一篇分為4章，講述薄膜光學基本理論，內(nèi)容包括各向同性均勻和非均勻、各向異性均勻和非均勻、吸收和導電層狀介質薄膜反射和透射特性計算；第二篇分為6章，分類講述增透膜、高反射膜、帶通濾光片、截止濾光片、帶阻濾光片和分光鏡的膜系構成、特性描述及其應用；第三篇分為3章，比較全面地介紹了物理氣相沉積、化學氣相沉積和液相沉積薄膜制備方法原理、光學薄膜檢測技術，以及一些金屬薄膜、半導體薄膜和介質薄膜制備實例。鑒于薄膜光學與薄膜技術的飛速發(fā)展，《薄膜光學與薄膜技術基礎》在取材的深度和廣度上充分考慮到現(xiàn)代前沿科學領域的知識內(nèi)容。 L%;[tu(*  
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目錄 8F9x2CM-[C  
第一篇 薄膜元學基本理搶 ;(&S1Rv9  
第1章 薄膜光學的電磁理論基礎 1 $8WWN} OC  
1.1 麥克斯韋方程 1 z)Lw\H^/  
1.2 平面電磁波 6 aUk]wiwIR9  
1.2.1 復矢量波動方程一一齊次矢量亥姆霍茲方程 6 XNJ3.w:R  
1.2.2 理想介質中的平面波解 7 * -(8Z>9  
1.2.3 吸收介質中的平面波解 8 N;gY5;0m  
1.3 平均電磁能流密度光強 9 EhAaaG  
1.4 電磁波譜、光譜 10 4 (XV)QR  
習題 12 nrg$V>pD  
參考文獻 12 n?*r,