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1. 摘要 A
[JV*Dt |qD<h 高NA物鏡廣泛用于光刻，顯微等技術(shù)。因此，聚焦仿真中考慮光的矢量性質(zhì)至關(guān)重要。VirtualLab可以非常便捷地對(duì)此類鏡頭進(jìn)行光線追跡和場(chǎng)追跡分析。通過(guò)場(chǎng)追跡，可以清楚地觀察由于矢量效應(yīng)引起的聚焦光斑失對(duì)稱現(xiàn)象。利用相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器能夠?qū)劢箙^(qū)域進(jìn)行靈活全面的研究，進(jìn)而加深對(duì)矢量效應(yīng)的理解。 _rv_-n]"o
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"x)W 3C%*S 2. 建模任務(wù) *4bV8T>0Z
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 2= _.K( D+U ^ pl- 3. 概述 M E.LS2'n
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示例系統(tǒng)包含了高數(shù)值孔徑物鏡 0IZV4{
下一步，我們將闡述如何遵循VirtualLab中推薦的工作流程執(zhí)行示例系統(tǒng)的仿真。 |N*>K a;
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