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摘要 +UWU|: @nV5.r0W}B 高數(shù)值孔徑物鏡廣泛用于光學(xué)光刻、顯微鏡等。因此,在聚焦模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線和光場(chǎng)追跡分析。 通過(guò)光場(chǎng)追跡,可以清楚地展示不對(duì)稱焦斑,這源于矢量效應(yīng)。 照相機(jī)探測(cè)器和電磁場(chǎng)探測(cè)器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性,并且可以深入了解矢量效應(yīng)。 o5Rz%k#h 9vGs; 3mt%!}S 8_\W/I!7b 建模任務(wù) |E/L.gdP7 zjX7C~h^Q {GqXP0'
6DSH`-; 入射平面波 eQX`,9:5 波長(zhǎng) 2.08 nm YwT-T,oD 光斑直徑: 3mm }3/~x 沿x方向線偏振 P]<= ! F wod/&!)]A 如何進(jìn)行整個(gè)系統(tǒng)的光線追跡分析? X.|Ygx 如何計(jì)算包含矢量效應(yīng)的焦點(diǎn)的強(qiáng)度分布? $.
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