[分享]光學(xué)薄膜的制造技術(shù) [復(fù)制鏈接]

光學(xué)薄膜可以采用物理氣相沉積(PVD)、化學(xué)氣相沉積(CVD)和化學(xué)液相沉積(CLD)三種技術(shù)來(lái)制備。 gbJG`zC>U  
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1.物理氣相沉積(PVD) QOd!]*W`?m  
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PVD需要使用真空鍍膜機(jī)，制造成本高，但膜層厚度可以精確控制，膜層強(qiáng)度好，目前已被廣泛采用.在PVD法中，根據(jù)膜料氣化方式的不同，又分為熱蒸發(fā)、濺射、離子鍍及離子輔助鍍技術(shù).其中，光學(xué)薄膜主要采用熱蒸發(fā)及離子輔助鍍技術(shù)制造，濺射及離子鍍技術(shù)用于光學(xué)薄膜制造的工藝是近幾年才開(kāi)始的。 W|0My0y  
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1.1 熱蒸發(fā) 5 1"8Py  
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光學(xué)薄膜器件主要采用真空環(huán)境下的熱蒸發(fā)方法制造，此方法簡(jiǎn)單、經(jīng)濟(jì)、操作方便.盡管光學(xué)薄膜制備技術(shù)得到長(zhǎng)足發(fā)展，但是真空熱蒸發(fā)依然是最主要的沉積手段，當(dāng)然熱蒸發(fā)技術(shù)本身也隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展與時(shí)俱進(jìn).?在真空室中，加熱蒸發(fā)容器中待形成膜的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸汽流，入射到固體(稱(chēng)為襯底或基片)表面，凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法。 Q]^Yi1PbS  
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