完全自動化的設計和制造，所需要的只是一個規(guī)格要求和一個開始按鈕，但是到目前為止，實現(xiàn)這個目標還有一段路要走。對于光學薄膜的設計，我們仍然需要從業(yè)人員豐富的技能和經(jīng)驗。好消息是，Macleod強大的優(yōu)化與合成技術可以將這個苦差事從設計操作中解脫出來。從業(yè)人員所需要的只是對如何以及何時使用它們的一點了解。優(yōu)化和合成是相似的，但優(yōu)化實質上改善了現(xiàn)有設計，而合成實際上可以構建一個膜系。 ?I@W:#>o
o0 vUj 計算機無法判斷膜系好或者壞等屬性。他們能做的最多就是認識到一個數(shù)字大于或小于另一個數(shù)字。因此，我們必須將好或差的屬性轉換為一對數(shù)字的比較。每個數(shù)字都被稱為品質因子。在Essential Macleod中，較小的品質因子意味著更好的設計。 :08,JL{
t`mV\)fa 設置評價函數(shù)的第一個基本要素是指定所需的性能。 這是通過一組目標來完成的。 在最簡單的情況下，每個目標完全獨立于任何其他目標（我們很快討論目標鏈接），并且?guī)缀蹩梢允侨魏慰捎嬎愕男阅?span onclick="sendmsg('pw_ajax.php','action=relatetag&tagname=參數(shù)',this.id)" style="cursor:pointer;border-bottom: 1px solid #FA891B;" id="rlt_2">參數(shù)。評價函數(shù)將目標和當前表現(xiàn)結合到一個數(shù)字M中：
"FKOaQ%IH #YOA`m ,' 其中M是品質因子，T是目標值，X是實際值，A是公差，W是權重，p是引起誤差的冪數(shù)。 Z)aUt
Srf 4 _c qT/ 圖1.一種陷波濾波器，通過對開始的四分之一堆棧的所有層進行優(yōu)化而實現(xiàn)。
{!dVDf_ 有時兩個目標參數(shù)之間的關系比它們的絕對值更重要。有時，對于p和s偏振的反射率應該相等而反射率的實際值相對不重要。 這需要Target Linking，它將線性關系中的目標組合在一起。具有相同Link Number的所有目標的性能屬性首先乘以Link Multiplier然后相加。 然后將單個目標值應用于此總和。如果兩個性能值相等，則它們的乘數(shù)必須相等但符號相反，并且要將它們的總和的目標設置為零。 :[!j?)%>
\K!VNB>h 膜層是可以鎖定或鏈接的。鎖定的膜層保持固定，不參與優(yōu)化。鏈接層一起移動，就像它們是一個單一變量一樣。目標文檔中的Thickness選項卡還可以對要使用的特定材料的總量進行約束。 5[u]E~Fl}
I(0~n,=j 設計文檔中的目標還可以指定Context。Context的主要目的是適應敏感的材料，即在不同狀態(tài)下具有不同光學常數(shù)的材料，但Context也可用于設計問題，如雙折射材料的抗反射。Context是在設計文檔的Context選項卡中定義的�？偸怯幸粋�Normal Context，如果忽略該Context，則將其設置為Normal�？梢栽贑ontext中定義膜層和基板。物理厚度在從一個環(huán)境到另一個環(huán)境的轉換中保持不變。圖2位相關案例。 \} :PLCKT
"6?0h[uff Context僅限于設計文檔。在其他如、stack、vstack、runsheet等中，假定為Normal Context。 {,~3.5u Oo% d ]8W 圖2.使用Context屬性的示例。在設計文件的Context中，標簽基板被聲明為一種敏感材料，在Normal Context中具有材料SiO2的特性，在新添加的Context中具有Al2O3的特性-Abnormal。在normal和abnormal情況下，目標被設置為從400nm到700nm的零反射率，圖中顯示了使用材料MgF2和Ta2O5進行優(yōu)化合成的結果。
