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- 注冊時間2020-06-19
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有很多的過程可以被稱之為反演工程,但在Essential Macleod中,該術(shù)語的意思是用來識別理想設(shè)計的和實際生產(chǎn)嘗試之間的差異。該功能大致可以概括為“出了什么問題”。這一過程類似于優(yōu)化,在優(yōu)化過程中,將初始設(shè)計進(jìn)行優(yōu)化,以滿足一組優(yōu)化目標(biāo)。優(yōu)化的目標(biāo)是測量出來的、有問題的膜層性能,但有的時候會有很復(fù)雜的情況。在正常的優(yōu)化中,經(jīng)常會有多個解決方案,但是,由于我們通常會從中選擇一個合適的設(shè)計,所以多個解決方案很少會帶來麻煩。在反演工程中,只有一個正確答案,多個解決方案可能是災(zāi)難性的,那么怎么才能知道我們是否得到了正確的答案?這一點沒有完全嚴(yán)格的測試方法,因此我們只能利用所掌握的關(guān)于鍍膜的所有知識來評估結(jié)果的合理性。我們還利用我們的知識和經(jīng)驗以及各種不同的約束來指導(dǎo)過程。同時,作為目標(biāo)的測量結(jié)果應(yīng)盡可能精確,這一點至關(guān)重要。因此,盡管反演工程本質(zhì)上是一個優(yōu)化器,但它的結(jié)構(gòu)與任何優(yōu)化工具都完全不同。 #(-V^T v-2O{^n 我們可以看一個在400nm至700nm區(qū)域NBK7玻璃上鍍減反射膜層反演工程中的應(yīng)用。這是使用四層SiO2和Ta2O5,我們在每個Ta2O5層中引入誤差,在第四層中,靠近基板厚度+10%,在較厚的第二層中厚度-10%。正確設(shè)計和錯誤設(shè)計的反射率如圖1所示,其中考慮了基板背面的影響。 ]+Yd#<j(u /g2(
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