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    [分享]用于微結(jié)構(gòu)晶片檢測(cè)的光學(xué)系統(tǒng) [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2021-06-08
    摘要 @a]O(S>Ub  
    n`TXm g  
    在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中，晶片檢測(cè)系統(tǒng)用于檢查晶片上的缺陷并找到它們的位置。為保證微結(jié)構(gòu)的圖像解析度，檢測(cè)系統(tǒng)常使用一個(gè)高NA的物鏡，工作在紫外波長(zhǎng)范圍。作為一個(gè)例子，模擬了一個(gè)完整的晶片檢測(cè)系統(tǒng)，包括高NA聚焦效應(yīng)和光與微結(jié)構(gòu)的互作用，并演示了圖像的形成。 \+3P<?hD#  
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