中科院合肥研究院采用高能電子束直接高效合成宏觀厚度三維多孔石墨烯晶體膜

近日，中科院合肥研究院固體所王振洋研究員課題組在宏觀厚度三維多孔石墨烯薄膜的大面積制備研究方面取得了新進展。研究人員以高能電子束作為能量源，利用電子束流的高動能和低反射特性，將聚酰亞胺前驅(qū)體直接原位誘導(dǎo)轉(zhuǎn)化為厚度高達0.66 mm的三維多孔石墨烯晶體膜。相關(guān)研究成果以“E-beam direct synthesis of macroscopic thick 3D porous graphene films”為題發(fā)表在Carbon期刊上。 z),l&7  
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石墨烯由于其特殊的物理與化學(xué)特性，被認為是新的戰(zhàn)略性材料。近年來，雖然制備手段在不斷進步，但是由于二維石墨烯片的團聚傾向，其在規(guī)�；瘧�(yīng)用上依然存在巨大難題。構(gòu)筑三維多孔結(jié)構(gòu)石墨烯可以有效防止片層重新堆疊，且有利于電解液離子的傳輸與擴散，在能源材料與器件領(lǐng)域具有重要應(yīng)用前景。然而，宏觀厚度三維多孔石墨烯晶體膜的高效合成仍然是一個挑戰(zhàn)。 pQEHWq"Q  
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研究人員發(fā)現(xiàn)，利用激光的高瞬時能量可以誘導(dǎo)含碳基質(zhì)直接碳化形成高結(jié)晶質(zhì)量石墨烯，其在儲能器件和電磁波屏蔽等領(lǐng)域性能突出。但是激光對含碳基基質(zhì)的穿透深度較低，導(dǎo)致所制備的石墨烯膜厚度不足，限制了其在實際器件中的應(yīng)用。因此，探索更加有效的能量源，是高能束流誘導(dǎo)石墨烯產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用所亟需解決的關(guān)鍵難題。 L"('gc!W  
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