硅光芯片測(cè)試解決方案

隨著通信技術(shù)的發(fā)展，光器件的尺寸越來(lái)越小，集成度越來(lái)越高，信息容量要求越來(lái)越大。因此，光器件、光模塊的各種特性參數(shù)的控制尤為重要，急需高精度，高分辨率的測(cè)試手段。LUNA基于OFDR原理的測(cè)試系統(tǒng)由于在短距離光網(wǎng)絡(luò)，以及器件級(jí)測(cè)試中能夠解決行業(yè)內(nèi)急需的測(cè)試難題，得到了廣泛使用�？臻g分辨率高達(dá)20微米，能夠準(zhǔn)確識(shí)別和定位具體損耗、彎曲、微裂紋、斷裂、熔接等事件點(diǎn)，還能夠精準(zhǔn)測(cè)量器件的光譜響應(yīng)，插損，回?fù)p，長(zhǎng)度等。提高光器件的研發(fā)以及驗(yàn)證周期。同時(shí)由于測(cè)量時(shí)間小于0.17s，可以滿足產(chǎn)線龐大的生產(chǎn)測(cè)試量。 U3|9a8^H