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摘要 r?pZ72q X]!D;7^ 光學(xué)各向異性,也被稱為雙折射,是產(chǎn)生各種光學(xué)現(xiàn)象及其相關(guān)應(yīng)用的原因。VirtualLab Fusion提供了一種快速和嚴(yán)格的場跟蹤分析算法,該算法應(yīng)用于S矩陣求解器,并工作在k域。在本應(yīng)用案例中,介紹了各向異性介質(zhì)的基本配置。 )|pU.K9qZ {(}yG_Q]! TiyUr [ G=|70pxU 目錄中的各向異性介質(zhì) wX0l?xdI pA.._8(t K\(6rS}N v5T`K=qC 定義各向異性介質(zhì) C',6%6P 雙軸晶體由三個(gè)方向的主折射率定義; #-{N
Ws\ 單軸晶體由o折射率和e折射率定義; -IU4#s 一般各向異性介質(zhì)可以通過直接定義介電常數(shù)張量建立。 T#@{G,N cvfUyp;P BqB|Fo 各向異性介質(zhì)預(yù)覽 &tj0M.- .*Vkua (rcMA>2= 預(yù)配置晶體 w{`Acu 2n)gpLIJ VitualLab Fusion提供了一系列預(yù)設(shè)的晶體介質(zhì),可以從介質(zhì)(Media)目錄中訪問。用戶還可以在目錄中導(dǎo)入和導(dǎo)出自定義的介質(zhì)。 s?c JV` ^
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