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    [技術(shù)]光學(xué)相干斷層掃描的上皮散射自發(fā)熒光強度校正——一個模型的研究 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2021-11-12
    本文以實驗結(jié)合光學(xué)軟件FRED來驗證熒光介質(zhì)上覆蓋散射層的影響，結(jié)合AF-OCT系統(tǒng)能夠減少由于上皮組織增厚引起的假陽性，增強AF疾病檢測的功效。 ykJ>*z  
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    摘要： ; @X<lCk  
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    在本文中，我們通過模擬組織的自發(fā)熒光（AF）特性進行了模型的研究。我們組合了光學(xué)相干斷層掃描（OCT）和AF成像系統(tǒng)，依據(jù)散射層的厚度和濃度來測量AF信號的強度。使用由生成的OCT圖像計算得到的厚度和散射濃度，結(jié)合AF-OCT系統(tǒng)能夠估計由上皮組織散射引起的AF損耗。我們定義了一個校正因子來計算上皮組織中的散射損耗，并且計算了一個校正散射AF信號。我們認(rèn)為校正散射AF將會減少在早期呼吸道病變檢測中的診斷誤檢率，誤檢是由混合因子產(chǎn)生，如增加的皮層厚度和炎癥。 3$/IC@+  
     g{LP7 D;6  
    關(guān)鍵詞：光學(xué)相干斷層掃描；自發(fā)熒光；光散射；模型；光線光學(xué)；OCT A-line數(shù)據(jù) MfkZ  
    =lSNs