上海光機(jī)所在單層石墨烯超快冷卻動(dòng)力學(xué)研究方面取得進(jìn)展
近日,中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所強(qiáng)場(chǎng)激光物理國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室研究團(tuán)隊(duì)在CVD制備的單層石墨烯數(shù)皮秒內(nèi)的超快光電導(dǎo)率冷卻動(dòng)力學(xué)方面取得新進(jìn)展。這一過(guò)程主要源于電子-聲子相互作用以及聲子-聲子相互作用過(guò)程的輔助作用,此發(fā)現(xiàn)與高質(zhì)量石墨烯類(lèi)似。相關(guān)研究成果發(fā)表于《物理化學(xué)學(xué)報(bào)C》(the Journal of Physical Chemistry C)。
近年來(lái),單層石墨烯由于其狄拉克錐中的高遷移率電子(狄拉克費(fèi)米子),在太赫茲探測(cè)技術(shù)中的應(yīng)用備受關(guān)注。對(duì)于未摻雜的石墨烯,超快太赫茲電導(dǎo)率弛豫主要由電子-聲學(xué)聲子超碰撞耦合驅(qū)動(dòng)。然而,關(guān)于具有負(fù)光誘導(dǎo)太赫茲電導(dǎo)率的CVD生長(zhǎng)的石墨烯,目前研究人員對(duì)其在小于10ps時(shí)間尺度下的太赫茲電導(dǎo)率弛豫過(guò)程的主要方面尚未達(dá)成共識(shí)。 為此,研究人員通過(guò)時(shí)間分辨太赫茲光譜系統(tǒng)研究了單層石墨烯冷卻過(guò)程中電子-聲學(xué)聲子耦合和光學(xué)聲子-聲學(xué)聲子耦合之間的競(jìng)爭(zhēng)過(guò)程。通過(guò)對(duì)太赫茲范圍內(nèi)光生載流子電導(dǎo)率冷卻過(guò)程的分析,驗(yàn)證了超快無(wú)序輔助光學(xué)聲子-聲學(xué)聲子相互作用在超快太赫茲電導(dǎo)率弛豫中起著關(guān)鍵作用。此外,還發(fā)現(xiàn)超快冷卻過(guò)程在不同泵浦波長(zhǎng)和外部溫度下具有可以通過(guò)對(duì)襯底摻雜調(diào)制的魯棒性。這項(xiàng)工作進(jìn)一步提高石墨烯基光轉(zhuǎn)換器件的熱電子提取效率,為CVD制備的石墨烯的冷卻通道的設(shè)計(jì)提供了重要的研究基礎(chǔ)。 圖1.石墨烯薄膜示意圖:石墨烯中熱載流子加熱和冷卻動(dòng)力學(xué),Graphene/SiO2(紅色)和Graphene/LiTaO3(藍(lán)色)襯底上冷卻時(shí)間常數(shù)的泵注量依賴(lài)性 原文鏈接:https://doi.org/10.1021/acs.jpcc.1c07783 關(guān)鍵詞: 石墨烯動(dòng)力學(xué)
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