完全自動化的設(shè)計和制造,所需要的只是一個規(guī)格要求和一個開始按鈕,但是到目前為止,實現(xiàn)這個目標(biāo)還有一段路要走。對于光學(xué)薄膜的設(shè)計,我們?nèi)匀恍枰獜臉I(yè)人員豐富的技能和經(jīng)驗。好消息是,Macleod強大的優(yōu)化與合成技術(shù)可以將這個苦差事從設(shè)計操作中解脫出來。從業(yè)人員所需要的只是對如何以及何時使用它們的一點了解。優(yōu)化和合成是相似的,但優(yōu)化實質(zhì)上改善了現(xiàn)有設(shè)計,而合成實際上可以構(gòu)建一個膜系。 FJKt5}`8
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計算機無法判斷膜系好或者壞等屬性。他們能做的最多就是認(rèn)識到一個數(shù)字大于或小于另一個數(shù)字。因此,我們必須將好或差的屬性轉(zhuǎn)換為一對數(shù)字的比較。每個數(shù)字都被稱為品質(zhì)因子。在Essential Macleod中,較小的品質(zhì)因子意味著更好的設(shè)計。 ..3TB=Z#
L{ ?& .iA 設(shè)置評價函數(shù)的第一個基本要素是指定所需的性能。 這是通過一組目標(biāo)來完成的。 在最簡單的情況下,每個目標(biāo)完全獨立于任何其他目標(biāo)(我們很快討論目標(biāo)鏈接),并且?guī)缀蹩梢允侨魏慰捎嬎愕男阅?span onclick="sendmsg('pw_ajax.php','action=relatetag&tagname=參數(shù)',this.id)" style="cursor:pointer;border-bottom: 1px solid #FA891B;" id="rlt_2">參數(shù)。評價函數(shù)將目標(biāo)和當(dāng)前表現(xiàn)結(jié)合到一個數(shù)字M中:
{f3)!Pei`J ++F #Z(p 其中M是品質(zhì)因子,T是目標(biāo)值,X是實際值,A是公差,W是權(quán)重,p是引起誤差的冪數(shù)。 Ku*@4#<L6h SJ^.#^) 圖1.一種陷波濾波器,通過對開始的四分之一堆棧的所有層進行優(yōu)化而實現(xiàn)。
THWT\3~, 有時兩個目標(biāo)參數(shù)之間的關(guān)系比它們的絕對值更重要。有時,對于p和s偏振的反射率應(yīng)該相等而反射率的實際值相對不重要。 這需要Target Linking,它將線性關(guān)系中的目標(biāo)組合在一起。具有相同Link Number的所有目標(biāo)的性能屬性首先乘以Link Multiplier然后相加。 然后將單個目標(biāo)值應(yīng)用于此總和。如果兩個性能值相等,則它們的乘數(shù)必須相等但符號相反,并且要將它們的總和的目標(biāo)設(shè)置為零。 U_m<W$"HF
9kuL1tcY 膜層是可以鎖定或鏈接的。鎖定的膜層保持固定,不參與優(yōu)化。鏈接層一起移動,就像它們是一個單一變量一樣。目標(biāo)文檔中的Thickness選項卡還可以對要使用的特定材料的總量進行約束。 U")~bU
7gfNe kr~W 設(shè)計文檔中的目標(biāo)還可以指定Context。Context的主要目的是適應(yīng)敏感的材料,即在不同狀態(tài)下具有不同光學(xué)常數(shù)的材料,但Context也可用于設(shè)計問題,如雙折射材料的抗反射。Context是在設(shè)計文檔的Context選項卡中定義的?偸怯幸粋Normal Context,如果忽略該Context,則將其設(shè)置為Normal?梢栽贑ontext中定義膜層和基板。物理厚度在從一個環(huán)境到另一個環(huán)境的轉(zhuǎn)換中保持不變。圖2位相關(guān)案例。 cBBc^SR
PQ<""_S|| Context僅限于設(shè)計文檔。在其他如、stack、vstack、runsheet等中,假定為Normal Context。 49^;T;'v !>Db 圖2.使用Context屬性的示例。在設(shè)計文件的Context中,標(biāo)簽基板被聲明為一種敏感材料,在Normal Context中具有材料SiO2的特性,在新添加的Context中具有Al2O3的特性-Abnormal。在normal和abnormal情況下,目標(biāo)被設(shè)置為從400nm到700nm的零反射率,圖中顯示了使用材料MgF2和Ta2O5進行優(yōu)化合成的結(jié)果。