超透鏡是基于超表面的成像器件，能夠精確調(diào)控光的相位、偏振、振幅，具有輕薄、易集成、平面化的優(yōu)點。針對近紅外成像器件的小型化、集成化發(fā)展趨勢，基于非晶硅材料設計制備了近紅外偏振不敏感超透鏡。針對超透鏡的基元結構選擇問題，對比了采用8階、6階基元設計的超透鏡聚焦效率；為提高加工容差和降低加工難度，采用了最大深寬比為6的8階基元設計超透鏡；針對超透鏡仿真與加工之間跨度大的問題，利用化學氣相沉積的方法生長了600 nm厚度的多晶硅，利用電子束刻蝕等工藝制備了超透鏡樣品。測試結果表明：超透鏡形貌結構良好，聚集效率為65%。
