從20世紀30年代開始，
光學薄膜逐漸被廣泛應用于日常生活、工業(yè)、天文學、軍事、宇航、光通信等領域，在國民經(jīng)濟和國防建設中起到了重大作用，因而得到了科學技術工作者的日益重視。而今新興技術的發(fā)展對薄膜技術不斷提出新的要求，又進一步促使了光學薄膜技術的蓬勃發(fā)展。所以近年來，對光學薄膜的研究及其應用一直是非�；钴S的課題。
>yO/p(/;jR V?{d<Ng~J 一、光學薄膜的制備方法 P<]U t+?Bb7p,H 在光學薄膜發(fā)展的歷程中，各種先進的薄膜制備技術不斷應用到光學薄膜制備的技術中。這些技術不僅大大拓寬了光學薄膜可以利用的材料范圍，而且極大地改進了光學薄膜的性能和功能，進而給光學薄膜提供了更為寬廣深遠的發(fā)展空間。下面介紹幾種常見的光學薄膜制備方法。
N<)CG,/w[M M) bQvjj 1.物理氣相沉積法
FuHBzBoM= ';I} 6N 物理氣相沉積法簡單地說，在真空條件下，采用物理方法，將材料源—固體或液體表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體(或等離子體)過程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術。 發(fā)展到目前，物理氣相沉積技術不僅可沉積金屬膜、合金膜、還可以沉積化合物、陶瓷、
半導體、聚合物膜等。之所以選擇高真空環(huán)境是因為薄膜材料在沉積的過程中不會與空氣中的活潑氣體反應，以及蒸汽分子在真空環(huán)境中不會與氣體分子碰撞，而是直接地到達基片。在實際薄膜沉積的過程中，需要控制的工藝
參數(shù)非常多，通常涉及到真空技術、材料科學、精密機械制造、光電技術、計算機技術、自動控制技術等領域。
l9.`2d]o d0aXA+S% 2.離子束輔助沉積法
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