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nK?k< 內(nèi)容簡介 ^td!g1"< Macleod軟件自帶的用戶手冊功能全面,其介紹涵蓋了軟件的方方面面,能夠使用戶快速的了解和熟悉軟件的基本操作。然而,為了順應(yīng)目前薄膜行業(yè)的需求,急需一本能夠契合軟件設(shè)計(jì)和實(shí)際加工需要的專業(yè)書籍,以能夠幫助薄膜領(lǐng)域的同行高效的完成相關(guān)工作,因此,我們特別推出了《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》。 WV,?Ge
《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)技術(shù)》(原著第二版)是世界著名光學(xué)薄膜專家Macleod先生40多年豐富工作經(jīng)驗(yàn)的總結(jié),結(jié)合當(dāng)前市場占有率極高的光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)與分析軟件Essential Macleod,其內(nèi)容豐富,實(shí)用性強(qiáng)。書中不僅有成熟的光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)、計(jì)算公式和分析方法,還有關(guān)于光學(xué)薄膜技術(shù)討論和解決方案以及全面考慮了薄膜的設(shè)計(jì)、分析、制造等各方面問題,如第8章中40個(gè)經(jīng)典案例分析。本書共設(shè)置21章節(jié),首先,從光學(xué)薄膜的基本理論出發(fā)(第2章),為大家介紹了設(shè)計(jì)一個(gè)薄膜所必備的基礎(chǔ)知識(shí)。其次,在第3至第7章主要介紹了Macleod軟件的相關(guān)操作,以幫助大家在較短的時(shí)間快速熟悉軟件操作界面。最后,從第9章至21章開始重點(diǎn)闡述軟件中的反演工程、提取光學(xué)常數(shù)、公差分析、薄膜顏色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模塊如何與實(shí)際相結(jié)合,從而使大家將理論知識(shí)與實(shí)際經(jīng)驗(yàn)結(jié)合起來,對實(shí)際鍍膜提出實(shí)用的建議,以減少設(shè)計(jì)時(shí)間并降低生產(chǎn)成本。 8^P2GG'+- 薄膜光學(xué)涵蓋范圍很廣,書中并附設(shè)計(jì)光盤和參考文獻(xiàn),有興趣者可依此深入研究,為精準(zhǔn)起見,在不影響理解的情況下,盡最大可能保留原文意思。譯者希望本書能夠?qū)氖卤∧ば袠I(yè)的人員有所幫助,通過學(xué)習(xí)之后能夠較好地完成其所承擔(dān)的光學(xué)任務(wù)。然而由于個(gè)人能力之局限,書中錯(cuò)誤紕漏之處在所難免,本書若有不周之處,尚請讀者不吝賜教。 8r`VbgI& *hk{q/*Qw 訊技科技股份有限公司 2015年9月3日 #whO2Mv 目錄 &P,4EaC9; Preface 1 +s+PnZ%0V 內(nèi)容簡介 2 OVQxZ~uQ 目錄 i |(J
?#? 1 引言 1 m 1'&{O: 2 光學(xué)薄膜基礎(chǔ) 2 cjy0s+>> 2.1 一般規(guī)則 2 ${TB2q}% 2.2 正交入射規(guī)則 3 5fvUv"m 2.3 斜入射規(guī)則 6 }OX>( 2.4 精確計(jì)算 7 WRLu3nBx 2.5 相干性 8 (_%JF[W 2.6 參考文獻(xiàn) 10 XqE55Jclp 3 Essential Macleod的快速預(yù)覽 10 QRg"/62WCD 4 Essential Macleod的特點(diǎn) 32 Y>dg10= 4.1 容量和局限性 33 %CsTB0Y7n, 4.2 程序在哪里? 33 N)
V7yo? 4.3 數(shù)據(jù)文件 35 2t]! {L 4.4 設(shè)計(jì)規(guī)則 35 9|G=KN)P: 4.5 材料數(shù)據(jù)庫和資料庫 37 8,H#t@+MT 4.5.1材料損失 38 RBv= 4.5.1材料數(shù)據(jù)庫和導(dǎo)入材料 39 9sO{1rF 4.5.2 材料庫 41 0-t4+T 4.5.3導(dǎo)出材料數(shù)據(jù) 43 R+ #.bQg 4.6 常用單位 43 )K\k6HC. 4.7 插值和外推法 46 QX.F1T2e? 4.8 材料數(shù)據(jù)的平滑 50 Be14$7r 4.9 更多光學(xué)常數(shù)模型 54 x%:>Ol 4.10 文檔的一般編輯規(guī)則 55 Tl/Dq(8JH 4.11 撤銷和重做 56 R^u^y{ohr 4.12 設(shè)計(jì)文檔 57 gKm~cjCB`~ 4.10.1 公式 58 qG2\`+v 4.10.2 更多關(guān)于膜層厚度 59 }07<(,0n 4.10.3 沉積密度 59 m|Q&Lphb8 4.10.4 平行和楔形介質(zhì) 60 |$|n
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