內(nèi)容簡介 Macleod軟件自帶的用戶手冊功能全面，其介紹涵蓋了軟件的方方面面，能夠使用戶快速的了解和熟悉軟件的基本操作。然而，為了順應目前薄膜行業(yè)的需求，急需一本能夠契合軟件設(shè)計和實際加工需要的專業(yè)書籍，以能夠幫助薄膜領(lǐng)域的同行高效的完成相關(guān)工作，因此，我們特別推出了《基于Essential Macleod軟件的光學薄膜設(shè)計技術(shù)》。 《基于Essential Macleod軟件的光學薄膜設(shè)計技術(shù)》（原著第二版）是世界著名光學薄膜專家Macleod先生40多年豐富工作經(jīng)驗的總結(jié)，結(jié)合當前市場占有率極高的光學薄膜設(shè)計與分析軟件Essential Macleod，其內(nèi)容豐富，實用性強。書中不僅有成熟的光學薄膜理論基礎(chǔ)、計算公式和分析方法，還有關(guān)于光學薄膜技術(shù)討論和解決方案以及全面考慮了薄膜的設(shè)計、分析、制造等各方面問題，如第8章中40個經(jīng)典案例分析。本書共設(shè)置21章節(jié)，首先，從光學薄膜的基本理論出發(fā)（第2章），為大家介紹了設(shè)計一個薄膜所必備的基礎(chǔ)知識。其次，在第3至第7章主要介紹了Macleod軟件的相關(guān)操作，以幫助大家在較短的時間快速熟悉軟件操作界面。最后，從第9章至21章開始重點闡述軟件中的反演工程、提取光學常數(shù)、公差分析、薄膜顏色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模塊如何與實際相結(jié)合，從而使大家將理論知識與實際經(jīng)驗結(jié)合起來，對實際鍍膜提出實用的建議，以減少設(shè)計時間并降低生產(chǎn)成本。 薄膜光學涵蓋范圍很廣，書中并附設(shè)計光盤和參考文獻，有興趣者可依此深入研究，為精準起見，在不影響理解的情況下，盡最大可能保留原文意思。譯者希望本書能夠?qū)氖卤∧ば袠I(yè)的人員有所幫助，通過學習之后能夠較好地完成其所承擔的光學任務(wù)。然而由于個人能力之局限，書中錯誤紕漏之處在所難免，本書若有不周之處，尚請讀者不吝賜教。 訊技科技股份有限公司 2015年9月3日 目錄 Preface 1 內(nèi)容簡介 2 目錄 i 1 引言 1 2 光學薄膜基礎(chǔ) 2 2.1 一般規(guī)則 2 2.2 正交入射規(guī)則 3 2.3 斜入射規(guī)則 6 2.4 精確計算 7 2.5 相干性 8 2.6 參考文獻 10 3 Essential Macleod的快速預覽 10 4 Essential Macleod的特點 32 4.1 容量和局限性 33 4.2 程序在哪里？ 33 4.3 數(shù)據(jù)文件 35 4.4 設(shè)計規(guī)則 35 4.5 材料數(shù)據(jù)庫和資料庫 37 4.5.1材料損失 38 4.5.1材料數(shù)據(jù)庫和導入材料 39 4.5.2 材料庫 41 4.5.3導出材料數(shù)據(jù) 43 4.6 常用單位 43 4.7 插值和外推法 46 4.8 材料數(shù)據(jù)的平滑 50 4.9 更多光學常數(shù)模型 54 4.10 文檔的一般編輯規(guī)則 55 4.11 撤銷和重做 56 4.12 設(shè)計文檔 57 4.10.1 公式 58 4.10.2 更多關(guān)于膜層厚度 59 4.10.3 沉積密度 59 4.10.4 平行和楔形介質(zhì) 60 4.10.5 漸變折射率和散射層 60 4.10.4 性能 61 4.10.5 保存設(shè)計和性能 64 4.10.6 默認設(shè)計 64 4.11 圖表 64 4.11.1 合并曲線圖 67 4.11.2 自適應繪制 68 4.11.3 動態(tài)繪圖 68 4.11.4 3D繪圖 69 4.12 導入和導出 73 4.12.1 剪貼板 73 4.12.2 不通過剪貼板導入 76 4.12.3 不通過剪貼板導出 76 4.13 背景 77 4.14 擴展公式-生成設(shè)計(Generate Design) 80 4.15 生成Rugate 84 4.16 參考文獻 91 5 在Essential Macleod中建立一個Job 92 5.1 Jobs 92 5.2 創(chuàng)建一個新Job（工作） 93 5.3 輸入材料 94 5.4 設(shè)計數(shù)據(jù)文件夾 95 5.5 默認設(shè)計 95 6 細化和合成 97 6.1 優(yōu)化介紹 97 6.2 細化 (Refinement) 98 6.3 合成 (Synthesis) 100 6.4 目標和評價函數(shù) 101 6.4.1 目標輸入 102 6.4.2 目標 103 6.4.3 特殊的評價函數(shù) 104 6.5 層鎖定和連接 104 6.6 細化技術(shù) 104 6.6.1 單純形 105 6.6.1.1 單純形參數(shù) 106 6.6.2 最佳參數(shù)(Optimac) 107 6.6.2.1 Optimac參數(shù) 108 6.6.3 模擬退火算法 109 6.6.3.1 模擬退火參數(shù) 109 6.6.4 共軛梯度 111 6.6.4.1 共軛梯度參數(shù) 111 6.6.5 擬牛頓法 112 6.6.5.1 擬牛頓參數(shù)： 112 6.6.6 針合成 113 6.6.6.1 針合成參數(shù) 114 6.6.7 差分進化 114 6.6.8非局部細化 115 6.6.8.1非局部細化參數(shù) 115 6.7 我應該使用哪種技術(shù)？ 116 6.7.1 細化 116 6.7.2 合成 117 6.8 參考文獻 117 7 導納圖及其他工具 118 7.1 簡介 118 7.2 薄膜作為導納的變換 118 7.2.1 四分之一波長規(guī)則 119 7.2.2 導納圖 120 7.3 用Essential Macleod繪制導納軌跡 124 7.4 全介質(zhì)抗反射薄膜中的應用 125 7.5 斜入射導納圖 141 7.6 對稱周期 141 7.7 參考文獻 142 8 典型的鍍膜實例 143 8.1 單層抗反射薄膜 145 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 8.4 W-膜層 148 8.5 V-膜層 149 8.6 V-膜層高折射基底 150 8.7 V-膜層高折射率基底b 151 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜層 152 8.9 四層抗反射薄膜 153 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 8.11 可見光和1.06 抗反射薄膜 155 8.12 六層寬帶抗反射薄膜 156 8.13 寬波段八層抗反射薄膜 157 8.14 寬波段25層抗反射薄膜 158 8.15十五層寬帶抗反射膜 159 8.16 四層2-1 抗反射薄膜 161 8.17 1/4波長堆棧 162 8.18 陷波濾波器 163 8.19 厚度調(diào)制陷波濾波器 164 8.20 褶皺 165 8.21 消偏振分光器1 169 8.22 消偏振分光器2 171 8.23 消偏振立體分光器 172 8.24 消偏振截止濾光片 173 8.25 立體偏振分束器1 174 8.26 立方偏振分束器2 177 8.27 相位延遲器 178 8.28 紅外截止器 179 8.29 21層長波帶通濾波器 180 8.30 49層長波帶通濾波器 181 8.31 55層短波帶通濾波器 182 8.32 47 紅外截止器 183 8.33 寬帶通濾波器 184 8.34 誘導透射濾波器 186 8.35 誘導透射濾波器2 188 8.36 簡單密集型光波復用（DWDM）濾波器 190 8.37 高級密集型光波復用技術(shù)（DWDM）濾波器 192 8.35 增益平坦濾波器 193 8.38 啁啾反射鏡 1 196 8.39 啁啾反射鏡2 198 8.40 啁啾反射鏡3 199 8.41 帶保護層的鋁膜層 200 8.42 增加鋁反射率膜 201 8.43 參考文獻 202 9 多層膜 204 9.1 多層膜基本原理—堆棧 204 9.2 內(nèi)部透過率 204 9.3 內(nèi)部透射率數(shù)據(jù) 205 9.4 實例 206 9.5 實例2 210 9.6 圓錐和帶寬計算 212 9.7 在Design中加入堆棧進行計算 214 10 光學薄膜的顏色 216 10.1 導言 216 10.2 色彩 216 10.3 主波長和純度 220 10.4 色相和純度 221 10.5 薄膜的顏色和最佳顏色刺激 222 10.6 色差 226 10.7 Essential Macleod中的色彩計算 227 10.8 顏色渲染指數(shù) 234 10.9 色差計算 235 10.10 參考文獻 236 11 鍍膜中的短脈沖現(xiàn)象(Short-Pluse Phenomena) 238 11.1 短脈沖 238 11.2 群速度 239 11.3 群速度色散 241 11.4 啁啾(chirped) 245 11.5 光學薄膜—相變 245 11.6 群延遲和延遲色散 246 11.7 色度色散 246 11.8 色散補償 249 11.9 空間光線偏移 256 11.10 參考文獻 258 12 公差與誤差 260 12.1 蒙特卡羅模型 260 12.2 Essential Macleod 中的誤差分析工具 267 12.2.1 誤差工具 267 12.2.2 靈敏度工具 271 12.2.2.1 獨立靈敏度 271 12.2.2.2 靈敏度分布 275 12.2.3 Simulator—更高級的模型 276 12.3 參考文獻 276 13 Runsheet 與Simulator 277 13.1 原理介紹 277 13.2 截止濾光片設(shè)計 277 14 光學常數(shù)提取 289 14.1 介紹 289 14.2 電介質(zhì)薄膜 289 14.3 n 和k 的提取工具 295 14.4 基底的參數(shù)提取 302 14.5 金屬的參數(shù)提取 306 14.6 不正確的模型 306 14.7 參考文獻 311 15 反演工程 313 15.1 隨機性和系統(tǒng)性 313 15.2 常見的系統(tǒng)性問題 314 15.3 單層膜 314 15.4 多層膜 314 15.5 含義 319 15.6 反演工程實例 319 15.6.1 邊緣濾波片的逆向工程 320 15.6.2 反演工程提取折射率 327 16 應力、張力、溫度和均勻性工具 329 16.1 光學性質(zhì)的熱致偏移 329 16.2 應力工具 335 16.3 均勻性誤差 339 16.3.1 圓錐工具 339 16.3.2 波前問題 341 16.4 參考文獻 343 17 如何在Function（模塊）中編寫操作數(shù) 345 17.1 引言 345 17.2 操作數(shù) 345 18 如何在Function中編寫腳本 351 18.1 簡介 351 18.2 什么是腳本？ 351 18.3 Function中腳本和操作數(shù)對比 351 18.4 基礎(chǔ) 352 18.4.1 Classes（類別） 352 18.4.2 對象 352 18.4.3 信息（Messages） 352 18.4.4 屬性 352 18.4.5 方法 353 18.4.6 變量聲明 353 18.5 創(chuàng)建對象 354 18.5.1 創(chuàng)建對象函數(shù) 355 18.5.2 使用ThisSession和其它對象 355 18.5.3 丟棄對象 356 18.5.4 總結(jié) 356 18.6 腳本中的表格 357 18.6.1 方法1 357 18.6.2 方法2 357 18.7 2D Plots in Scripts 358 18.8 3D Plots in Scripts 359 18.9 注釋 360 18.10 腳本管理器調(diào)用Scripts 360 18.11 一個更高級的腳本 362 18.12 <esc>鍵 364 18.13 包含文件 365 18.14 腳本被優(yōu)化調(diào)用 366 18.15 腳本中的對話框 368 18.15.1 介紹 368 18.15.2 消息框-MsgBox 368 18.15.3 輸入框函數(shù) 370 18.15.4 自定義對話框 371 18.15.5 對話框編輯器 371 18.15.6 控制對話框 377 18.15.7 更高級的對話框 380 18.16 Types語句 384 18.17 打開文件 385 18.18 Bags 387 18.13 進一步研究 388 19 vStack 389 19.1 vStack基本原理 389 19.2 一個簡單的系統(tǒng)——直角棱鏡 391 19.3 五棱鏡 393 19.4 光束距離 396 19.5 誤差 399 19.6 二向分色棱鏡 399 19.7 偏振泄漏 404 19.8 波前誤差—相位 405 19.9 其它計算參數(shù) 405 20 報表生成器 406 20.1 入門 406 20.2 指令(Instructions) 406 20.3 頁面布局指令 406 20.4 常見的參數(shù)圖和三維圖 407 20.5 表格中的常見參數(shù) 408 20.6 迭代指令 408 20.7 報表模版 408 20.8 開始設(shè)計一個報表模版 409 21 一個新的project 413 21.1 創(chuàng)建一個新Job 414 21.2 默認設(shè)計 415 21.3 薄膜設(shè)計 416 21.4 誤差的靈敏度計算 420 21.5 顯色指數(shù)計算 422 21.6 電場分布 424 后記 426 | 
