不需EUV光刻機 國內首條光子芯片產線2023年建成
如今,光刻機一直限制著國產芯片的發(fā)展,為了突破限制,國家正在大力推進光子芯片,其原理跟硅芯片不同,運算速度可提升 1000 倍以上,而且不依賴先進的光刻機,比如 EUV 光刻機,因此是各國爭相發(fā)展的新一代信息科技。 近日,有消息稱,國內首條 " 多材料、跨尺寸 " 的光子芯片生產線已在籌備,預計將于 2023 年在京建成,可滿足通信、數(shù)據(jù)中心、激光雷達、微波光子、醫(yī)療檢測等領域需求,有望填補我國在光子芯片晶圓代工領域的空白。 據(jù)悉,光子芯片是光電子器件的核心組成部分,與集成電路芯片相比存在多處不同。例如:從性能而言,光子芯片的計算速度較電子芯片快約 1000 倍,且功耗更低。 |