二氧化硅具有優(yōu)異的光透過性、絕緣性、抗磨性、較寬的禁帶寬度以及化學(xué)惰性等性能，作為真空
鍍膜材料在
光學(xué)、微電子等領(lǐng)域已經(jīng)得到廣泛應(yīng)用，如
光學(xué)系統(tǒng)中的增透減反膜、微電子器件上的介電層等。
&]yJCzo] PDq}T q 在光學(xué)領(lǐng)域中的應(yīng)用
納米材料合成的單層
薄膜和多層薄膜主要用來作為紅外線反射材料。納米微粒的膜材料在燈泡工業(yè)中有著良好的應(yīng)用前景。20世紀(jì)80年代以來，人們用納米SiO2（VK-SP30）和TiO2制成多層干涉膜，襯在燈泡罩的內(nèi)壁，結(jié)果不但透光率好，而且有很強(qiáng)的紅外反射能力。
?tC}M;~ )Kk(P/s 二氧化硅還可用于
光纖端頭的鍍膜使用，在高真空環(huán)境中，通過膜系設(shè)計(jì)，與高折射材料例Ta2O5，相互配合鍍膜于光纖端頭，從而達(dá)到提升光纖的透過或高反的目的。
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