一、
鍍膜技術(shù)可區(qū)分為哪幾類?
@XN *H- | 可區(qū)分為：(1)真空蒸鍍 (2)電鍍 (3)化學(xué)反應(yīng) (4)熱處理 (5)物理或機(jī)械處理
HImQ.y!B 二、蒸鍍的加熱方式包括哪幾種?各具有何特點(diǎn)?
H|s,; 1# 加熱方式分為：
3) 3$ L (1)電阻加熱 (2)感應(yīng)加熱 (3)電子束加熱 (4)雷射加熱 (5)電弧加熱
!CUX13/0 (
P\oLr9 各具有的特點(diǎn)：
qrkJ: (1)電阻加熱：這是一種最簡單的加熱方法，設(shè)備便宜、操作容易是其優(yōu)點(diǎn)。
@2/ xu ^-g-]?q (2)感應(yīng)加熱：加熱效率佳，升溫快速，并可加熱大容量。
|*JMCI@Mz >slGicZ0 (3)電子束加熱：這種加熱方法是把數(shù)千eV之高能量電子，經(jīng)磁場聚焦，直接撞擊蒸發(fā)物加熱，溫度可以高達(dá)30000C。而它的電子的來源有二：高溫金屬產(chǎn)生的熱電子，另一種電子的來源為中空陰極放電。
m98w0D@Ee !BEl6h (4)雷射加熱：
激光束可經(jīng)由
光學(xué)聚焦在蒸鍍源上，產(chǎn)生局部瞬間高溫使其逃離。最早使用的是脈沖紅寶雷射，而后發(fā)展出紫外線準(zhǔn)分子雷射。紫外線的優(yōu)點(diǎn)是每一
光子的能量遠(yuǎn)比紅外線高，因此準(zhǔn)分子雷射的功率密度甚高，用以加熱蒸鍍的功能和電子束類似。常被用來披覆成份復(fù)雜的化合物，鍍膜的品質(zhì)甚佳.它和電子束加熱或?yàn)R射的過程有基本上的差異，準(zhǔn)分子雷射脫離的是微細(xì)的顆粒，后者則是以分子形式脫離。
>"<<hjKJ ?vg|; Q (5)電弧加熱：
-^WW7 g` 陰極電弧沉積的優(yōu)點(diǎn)為：
66l+ cb (1)蒸鍍速率快，可達(dá)每秒1.0微米
t$(<9 (2)基板不須加熱
sG:tyvln (3)可鍍高溫金屬及陶瓷化合物
2SJ|$VsLaE (4)鍍膜密高且附著力佳
#OVS ]Asn} W3]?>sLE* 三、真空蒸鍍可應(yīng)用在哪些產(chǎn)業(yè)?
6rh^?B 主要產(chǎn)業(yè)大多應(yīng)用于裝飾、光學(xué)、電性、機(jī)械及防蝕方面等，現(xiàn)就比較常見者分述如下：
VL/KC -6 1.鏡片的抗反射鍍膜(MgO、MgF2、SiO2等)，鏡片置于半球支頂，一次可鍍上百片以上。
KCi0v 2.金屬、合金或化合物鍍膜，應(yīng)用于微電子當(dāng)導(dǎo)線、電阻、光電功能等用途。
18AlQ+')?w 3.鍍鋁或鉭于絕緣物當(dāng)電容之電極。
"4 WwiI9 4.特殊合金鍍膜MCrAlY具有耐熱性抗氧化性，耐溫達(dá)1100OC，可應(yīng)用須耐高溫環(huán)境的工件，如高速切削及成形加工、渦輪引擎葉片等。
*4O9W8Qz 5.鍍金屬于玻璃板供建筑物之裝飾及防紫外線。
UY/qI%#L#, 6.離子蒸鍍鍍鋁，系以負(fù)高電壓加在被鍍件上，再把鋁加熱蒸發(fā)，其蒸氣經(jīng)由電子撞擊離子化，然后鍍到鋼板上。
2i~zAD' 7.鍍鋁于膠膜，可供裝飾或標(biāo)簽，且鍍膜具有金屬感等。最大的用途就是包裝，可以防潮、防空氣等的滲入。
=m/BH^|&W 8.機(jī)械零件或刀磨具鍍硬膜(TiC、TiN、Al2O3)這些超硬
薄膜不但硬度高，可有效提高耐磨性，而且所需厚度剪小，能符合工件高精度化的要求。
1aS66TS3 9.特殊合金薄片之制造。
"q3W& @ 10.鍍多層膜于鋼板，改善其性能。
#s0Wx47~ 11.鍍硅于CdS太陽
電池，可增加其效率。
6&[rA TU+ 12.奈米粉末之制造，鍍于冷基板上，使其不附著。
mM\jU5P:^ gbjql+Mx+ 四、TiN氮化鈦鍍膜具有哪些特點(diǎn)?
D |9ItxYu 有以下的優(yōu)點(diǎn)：
' qN"!\ (1)抗磨損
C$7 dmGjZ (2)具亮麗的外觀
cnR18NK (3)具安全性，可使用于外科及食品用具。
xF7q9'/F (4)具潤滑作用，可減少磨擦。
xv~E wT) (5)具防蝕功能
1Gh3o}z (6)可承受高溫
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|<yK 五、CVD化學(xué)氣相沉積法反應(yīng)步驟可區(qū)分為哪五個步驟?
<XH,kI(% (1)不同成份氣相前置反應(yīng)物由主流氣體進(jìn)來，以擴(kuò)散機(jī)制傳輸基板表面。理想狀況下，前置物在基板上的濃度是零，亦即在基板上立刻反應(yīng)，實(shí)際上并非如此。
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