一、
鍍膜技術(shù)可區(qū)分為哪幾類?
En+4@BC 可區(qū)分為：(1)真空蒸鍍 (2)電鍍 (3)化學反應(yīng) (4)熱處理 (5)物理或機械處理
NWwfNb> 二、蒸鍍的加熱方式包括哪幾種?各具有何特點?
MR%M[SK1 加熱方式分為：
Bcrd}'no (1)電阻加熱 (2)感應(yīng)加熱 (3)電子束加熱 (4)雷射加熱 (5)電弧加熱
s \#kqw\x LYGFE jS[ 各具有的特點：
9%oLv25{) (1)電阻加熱：這是一種最簡單的加熱方法，設(shè)備便宜、操作容易是其優(yōu)點。
8~:qn@ Z|E Ts:dnGR5 (2)感應(yīng)加熱：加熱效率佳，升溫快速，并可加熱大容量。
rj$u_y3S* :::"C"Ge (3)電子束加熱：這種加熱方法是把數(shù)千eV之高能量電子，經(jīng)磁場聚焦，直接撞擊蒸發(fā)物加熱，溫度可以高達30000C。而它的電子的來源有二：高溫金屬產(chǎn)生的熱電子，另一種電子的來源為中空陰極放電。
1>b kVA L|S#(0 (4)雷射加熱：
激光束可經(jīng)由
光學聚焦在蒸鍍源上，產(chǎn)生局部瞬間高溫使其逃離。最早使用的是脈沖紅寶雷射，而后發(fā)展出紫外線準分子雷射。紫外線的優(yōu)點是每一
光子的能量遠比紅外線高，因此準分子雷射的功率密度甚高，用以加熱蒸鍍的功能和電子束類似。常被用來披覆成份復(fù)雜的化合物，鍍膜的品質(zhì)甚佳.它和電子束加熱或濺射的過程有基本上的差異，準分子雷射脫離的是微細的顆粒，后者則是以分子形式脫離。
{~16j" _.J{U0N (5)電弧加熱：
ho#] ?Z# 陰極電弧沉積的優(yōu)點為：
R[wy{4<y (1)蒸鍍速率快，可達每秒1.0微米
Qz{:m (2)基板不須加熱
Y1{6lhxgE (3)可鍍高溫金屬及陶瓷化合物
f|?i6.N> f (4)鍍膜密高且附著力佳
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