在超大規(guī)模集成電路中，為了實(shí)現(xiàn)NA=135，波長(zhǎng)193nm處分辨率達(dá)到 45nm的目標(biāo)，需要對(duì)影響光刻照明均勻性的誤差源進(jìn)行詳細(xì)分析最終確定公差范圍。復(fù)眼透鏡是使光束在系統(tǒng)掩膜面上形成矩形均勻照明區(qū)域的關(guān)鍵元件。采用CODEV軟件設(shè)計(jì)了復(fù)眼透鏡對(duì)引起照明不均勻性的因素進(jìn)行分析，結(jié)合復(fù)眼透鏡組的設(shè)計(jì)方案和實(shí)際加工能力，給出X和Y向復(fù)眼曲率公差為±10%，后組曲率公差為±5%，前后組間隔公差為±50μｍ，位置精度偏心公差為±1μｍ，裝配精度公差為±3μｍ。制定公差合理、可行，滿足了浸沒(méi)式光刻照明系統(tǒng)高均勻性、高能量利用率的要求。 mS+sh'VH
