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- 注冊時間2020-06-19
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摘要 P&yB(M-z `lrNH]B 在傳統(tǒng)的 Talbot 光刻中,在光敏層中僅使用一個圖像。 但是,可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個圖像。 在本案例中,按照 I.-H. Lee 等人在 VirtualLab Fusion 中使用傅里葉模態(tài)方法 (FMM,也稱為 RCWA) 對具有一層錐體的相位掩模進(jìn)行建模?梢詸z測到不同的 Talbot 圖像,在主像平面中會再現(xiàn)柱狀圖案,而在次要像平面中再現(xiàn)孔圖案。 biS{. "ji+~%`^[t =G !]_d0 mW~*GD~r 建模任務(wù) rM?
J40&. !L<z(dV|( 5vLA)Al3
qt6@]Y structure and material parameters from I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015) IZGRQmi" 4K 8
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