|
|
摘要 ;W,XP#{W
$Q*h+)g< 在傳統(tǒng)的 Talbot 光刻中，在光敏層中僅使用一個(gè)圖像。 但是，可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個(gè)圖像。 在本案例中，按照 I.-H. Lee 等人在 VirtualLab Fusion 中使用傅里葉模態(tài)方法 (FMM，也稱為 RCWA) 對(duì)具有一層錐體的相位掩模進(jìn)行建模�？梢詸z測(cè)到不同的 Talbot 圖像，在主像平面中會(huì)再現(xiàn)柱狀圖案，而在次要像平面中再現(xiàn)孔圖案。 PCDsj _e
> Pj ?IE6  <gRv7 ?V[z <x@ brXA 建模任務(wù) 7.-Q9xv ,<s'/8Ik  Ae R3wua V`qHN M/t structure and material parameters from I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015) {eA0I\c(C xU+c?OLi 系統(tǒng)建模塊 l\< *9m< .E}fk,hLB  1eQ a54n B|U*2|e 特定位置的Talbot圖案 $}RB K'cr} p+#$S4V
 s"*ZQ0OaD G6wBZ?)k 特定位置的Talbot圖案 \g & P5
|
