[求助]第一層速率問(wèn)題 [復(fù)制鏈接]

各位老師好，我家的鍍膜機(jī)鍍第一層時(shí)速度時(shí)-10多開(kāi)始的，請(qǐng)問(wèn)是什么原因？

一般是溫度造成的，如果有離子源，離子源擋板先開(kāi)30秒；如果只是電子槍，那么開(kāi)擋板后3S清零一次會(huì)比較好。

謝謝1樓，

ouyuu:一般是溫度造成的，如果有離子源，離子源擋板先開(kāi)30秒；如果只是電子槍，那么開(kāi)擋板后3S清零一次會(huì)比較好。 (2024-08-28 22:26)  ,u14R]  

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膜林晶控儀內(nèi)部有開(kāi)擋板后，15秒（時(shí)間可設(shè)，在材料參數(shù)最后1頁(yè)，如果是計(jì)算機(jī)控制，則參考材料1） 內(nèi)出現(xiàn)的負(fù)厚度自動(dòng)丟棄功能，無(wú)需外部清零。 yaAg!mW  
《探頭與接口》界面可以看到，最近一次 自動(dòng)丟棄的負(fù)厚度累計(jì)值，很有意思的。 !@>:k3DC&  
其實(shí)幾乎每一層開(kāi)始前都會(huì)有這一現(xiàn)象的。而不僅僅是第一層。

晶控的機(jī)臺(tái)基本上都有這種問(wèn)題，如果有離子源就設(shè)定離子源檔板與電子槍檔板兩個(gè)打開(kāi)時(shí)間不同時(shí)就可以有效改善，但沒(méi)辦法徹底根除。