微瀾光學(xué)“一種具有光學(xué)間隔層的成像薄膜制備方法”專利公布

發(fā)布:cyqdesign 2024-10-12 17:13 閱讀:192

近日,據(jù)國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局信息顯示,微瀾光學(xué)(蘇州)有限公司申請一項(xiàng)名為“一種具有光學(xué)間隔層成像薄膜制備方法”的專利,公開號(hào) CN 118746868 A,申請日期為2024年8月。

專利摘要顯示,本申請揭示一種具有光學(xué)間隔層的成像薄膜制備方法,包括:準(zhǔn)備一光學(xué)間隔層,其中,所述光學(xué)間隔層至少包括一輔助層,且所述輔助層能阻止380nm以下光波長光線透過;在所述光學(xué)間隔層的兩個(gè)相對表面分別設(shè)置第一光學(xué)層以及第二光學(xué)層;使用I線光波長的光線對第一光學(xué)層以及第二光學(xué)層進(jìn)行曝光;對曝光后的第一光學(xué)層以及第二光學(xué)層進(jìn)行后處理,使得所述第一光學(xué)層形成聚焦層,所述第二光學(xué)層形成圖文層。本申請將承載體設(shè)置為具有阻止波長在380nm以下的光線通過,或在承載體上設(shè)置輔助層達(dá)到上述效果,這樣可以在光學(xué)間隔的兩側(cè)同時(shí)進(jìn)行曝光,其中一側(cè)的光不影響另一側(cè)光學(xué)層,這樣只需對光學(xué)間隔層兩側(cè)掩膜版對位,這樣在生產(chǎn)過程中對位的誤差極小。

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gangzi0801 2024-10-13 22:21
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