pVc+}Wzh 課程編號CS240016 ^=eC1bQA vCP[7KhGj 時間地點(diǎn) v,iZnANZ&P pa46,q&M 主辦單位:訊技光電科技(上海)有限公司;蘇州黌論教育咨詢有限公司
3RaW\cWzg 授課時間:2024年12月4 (三)-6(五)共3天 AM 9:00-PM 16:00
OMK,L:poC 授課地點(diǎn):上海市嘉定區(qū)南翔銀翔路819號中暨大廈18樓1805室
'i%r 課程講師:訊技光電高級工程師&資深顧問
P!]uJ8bi 課程費(fèi)用:4800RMB(課程包含課程材料費(fèi)、開票稅金、午餐)
Po58@g %W~w\mT 0!,uo\` 特邀專家介紹 ~Ykn|$_"I l7g'z'G 易葵:中國科學(xué)院上海光機(jī)所正高級工程師,主要從事
光學(xué)薄膜設(shè)計、制備工藝和測試相關(guān)方面的研究工作,尤其是在高功率
激光薄膜、空間激光薄膜、X射線多層膜、真空
鍍膜技術(shù)與薄膜制備工藝研究等方面有較為深入的研究。獲得國家技術(shù)發(fā)明獎二等獎、上海市技術(shù)發(fā)明獎一等獎、上海市科技進(jìn)步二等獎、軍隊科技進(jìn)步二等獎等獎項(xiàng),入選2014年度中科院“現(xiàn)有關(guān)鍵技術(shù)人才”。
bkd`7(r :^ywc O HF0G=U}i 課程簡介 #][i!9$ fJlNxdVr 隨著現(xiàn)代科技的飛速發(fā)展,光學(xué)薄膜的應(yīng)用越來越廣泛。光學(xué)薄膜的發(fā)展極大地促進(jìn)了現(xiàn)代光學(xué)儀器性能的提高,其種類非常廣泛,如增透膜,高反膜,分光膜,濾光片等,光學(xué)薄膜器件如今已經(jīng)廣泛應(yīng)用到光通信技術(shù)、光伏產(chǎn)業(yè)技術(shù)、激光技術(shù)、光刻技術(shù)、航空航天技術(shù)等諸多領(lǐng)域。本次課程第一天主要為國際知名的光學(xué)薄膜分析軟件Essential Macleod的使用,第二天為各種類型的光學(xué)薄膜的設(shè)計
模擬方法,前兩天主講人為訊技光電高級工程師,第三天特別邀請上海光學(xué)精密機(jī)械研究所專家易葵,分享光學(xué)薄膜制備工藝、激光薄膜關(guān)鍵技術(shù)以及光學(xué)薄膜的測量方法等相關(guān)內(nèi)容。
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U\|ZCH\] 課程大綱 $w*L'
< P] *x6c^n 1. Essential Macleod軟件介紹1.1 介紹
軟件 0BDw}E\ 1.2 創(chuàng)建一個簡單的設(shè)計1.3 繪圖和制表來表示性能
(6$P/k8 1.4 通過剪貼板和文件導(dǎo)入導(dǎo)出數(shù)據(jù)1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann)
P7F"#R0QB 1.6 特定設(shè)計的公式技術(shù)1.7 交互式繪圖
5TJd9:\Af 2. 光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)2.1 垂直入射時的界面和薄膜特性計算
jh/,G5RM9 2.2 后表面對光學(xué)薄膜特性的影響
3. 材料管理 ]qqgEZ1!Y 3.1 材料模型3.2 介質(zhì)薄膜光學(xué)常數(shù)的提取
l$&~(YE f 3.3 金屬薄膜光學(xué)常數(shù)的提取3.4 基板光學(xué)常數(shù)的提取
qt}M&=}8Q 4. 光學(xué)薄膜設(shè)計優(yōu)化方法4.1 參考
波長與g
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0:X*>}p 4.2 四分之一規(guī)則4.3 導(dǎo)納與導(dǎo)納圖
p=:Vpg<! 4.4 斜入射光學(xué)導(dǎo)納4.5 光學(xué)薄膜設(shè)計的進(jìn)展
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U 4.6 Macleod軟件的設(shè)計與優(yōu)化功能4.6.1 優(yōu)化目標(biāo)設(shè)置
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4.6.2 優(yōu)化方法(單一優(yōu)化,合成優(yōu)化,模擬退火法,共軛梯度法,準(zhǔn)牛頓法,針形優(yōu)化,差分演化法)4.6.3 膜層鎖定和鏈接
3SIqod;% 5. 光學(xué)薄膜系統(tǒng)設(shè)計與分析案例與應(yīng)用5.1 減反射薄膜
0Ncpi=6 5.2 分光膜5.3 高反射膜
-8^qtB 5.4 干涉截止濾光片5.5 窄帶濾光片
@[lMh9` 5.6 負(fù)濾光片5.7 非均勻膜與Rugate濾光片
ES4Wtc)& 5.8 仿生蛾眼/復(fù)眼結(jié)構(gòu)5.9 顏色膜
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B 5.10 Vstack薄膜設(shè)計示例5.11 Stack應(yīng)用范例說明
'$OUe {j< 6. 薄膜性能分析6.1 電場分布
3'.@aMA@ 6.2 公差與靈敏度分析6.3 反演工程
l^	d 6.4 均勻性,摻雜/孔隙材料仿真
7. 真空技術(shù) 1<G+KC[F 7.1 常用真空泵介紹7.2 真空密封和檢漏
o{y}c-> 8. 薄膜制備技術(shù)8.1 常見薄膜制備技術(shù)
'{AB{)1 9. 薄膜制備工藝9.1 薄膜制備工藝因素
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