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    [推薦]線下課程——薄膜設(shè)計與鍍膜工藝(12月4~6日)上海 [復(fù)制鏈接]

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    只看樓主 倒序閱讀 樓主  發(fā)表于: 2024-10-14
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    課程編號CS240016                                                                             ^=eC1 bQA  
    vCP[7KhGj  
    時間地點(diǎn) v,iZnANZ&P  
    pa46,q&M  
    主辦單位:訊技光電科技(上海)有限公司;蘇州黌論教育咨詢有限公司 3RaW\cWzg  
    授課時間:2024年12月4 (三)-6(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 OMK,L:poC  
    授課地點(diǎn):上海市嘉定區(qū)南翔銀翔路819號中暨大廈18樓1805室 'i%r  
    課程講師:訊技光電高級工程師&資深顧問 P!]uJ8bi  
    課程費(fèi)用:4800RMB(課程包含課程材料費(fèi)、開票稅金、午餐) Po58@g  
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    特邀專家介紹 ~Ykn|$_"I  
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    易葵:中國科學(xué)院上海光機(jī)所正高級工程師,主要從事光學(xué)薄膜設(shè)計、制備工藝和測試相關(guān)方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空間激光薄膜、X射線多層膜、真空鍍膜技術(shù)與薄膜制備工藝研究等方面有較為深入的研究。獲得國家技術(shù)發(fā)明獎二等獎、上海市技術(shù)發(fā)明獎一等獎、上海市科技進(jìn)步二等獎、軍隊科技進(jìn)步二等獎等獎項(xiàng),入選2014年度中科院“現(xiàn)有關(guān)鍵技術(shù)人才”。 bkd`7(r  
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    課程簡介 # ][i!9$  
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    隨著現(xiàn)代科技的飛速發(fā)展,光學(xué)薄膜的應(yīng)用越來越廣泛。光學(xué)薄膜的發(fā)展極大地促進(jìn)了現(xiàn)代光學(xué)儀器性能的提高,其種類非常廣泛,如增透膜,高反膜,分光膜,濾光片等,光學(xué)薄膜器件如今已經(jīng)廣泛應(yīng)用到光通信技術(shù)、光伏產(chǎn)業(yè)技術(shù)、激光技術(shù)、光刻技術(shù)、航空航天技術(shù)等諸多領(lǐng)域。本次課程第一天主要為國際知名的光學(xué)薄膜分析軟件Essential Macleod的使用,第二天為各種類型的光學(xué)薄膜的設(shè)計模擬方法,前兩天主講人為訊技光電高級工程師,第三天特別邀請上海光學(xué)精密機(jī)械研究所專家易葵,分享光學(xué)薄膜制備工藝、激光薄膜關(guān)鍵技術(shù)以及光學(xué)薄膜的測量方法等相關(guān)內(nèi)容。 `,6|6.8#  
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    課程大綱 $w*L' <  
    P] *x6c^n  
    1. Essential Macleod軟件介紹1.1 介紹軟件 0BDw}E\  
    1.2 創(chuàng)建一個簡單的設(shè)計1.3 繪圖和制表來表示性能 (6$ P/k8  
    1.4 通過剪貼板和文件導(dǎo)入導(dǎo)出數(shù)據(jù)1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) P7F"#R0QB  
    1.6 特定設(shè)計的公式技術(shù)1.7 交互式繪圖 5TJd9:\Af  
    2. 光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)2.1 垂直入射時的界面和薄膜特性計算 jh/,G5RM9  
    2.2 后表面對光學(xué)薄膜特性的影響3. 材料管理 ]qqgEZ1!Y  
    3.1 材料模型3.2 介質(zhì)薄膜光學(xué)常數(shù)的提取 l$&~(YE f  
    3.3 金屬薄膜光學(xué)常數(shù)的提取3.4 基板光學(xué)常數(shù)的提取 qt}M&=}8Q  
    4. 光學(xué)薄膜設(shè)計優(yōu)化方法4.1 參考波長與g Wu 0:X*>}p  
    4.2 四分之一規(guī)則4.3 導(dǎo)納與導(dǎo)納圖 p=:Vpg<!  
    4.4 斜入射光學(xué)導(dǎo)納4.5 光學(xué)薄膜設(shè)計的進(jìn)展 :\|A.# U  
    4.6 Macleod軟件的設(shè)計與優(yōu)化功能4.6.1 優(yōu)化目標(biāo)設(shè)置 7(1`,Y  
    4.6.2 優(yōu)化方法(單一優(yōu)化,合成優(yōu)化,模擬退火法,共軛梯度法,準(zhǔn)牛頓法,針形優(yōu)化,差分演化法)4.6.3 膜層鎖定和鏈接 3SIq od;%  
    5. 光學(xué)薄膜系統(tǒng)設(shè)計與分析案例與應(yīng)用5.1 減反射薄膜 0Ncpi=6  
    5.2 分光膜5.3 高反射膜 -8^qtB  
    5.4 干涉截止濾光片5.5 窄帶濾光片 @[lMh9`  
    5.6 負(fù)濾光片5.7 非均勻膜與Rugate濾光片 ES4Wtc)&  
    5.8 仿生蛾眼/復(fù)眼結(jié)構(gòu)5.9 顏色膜 '?Dxe B  
    5.10 Vstack薄膜設(shè)計示例5.11 Stack應(yīng)用范例說明 '$OUe {j<  
    6. 薄膜性能分析6.1 電場分布 3'.@aMA@  
    6.2 公差與靈敏度分析6.3 反演工程 l^&#9d  
    6.4 均勻性,摻雜/孔隙材料仿真7. 真空技術(shù) 1<G+KC[F  
    7.1 常用真空泵介紹7.2 真空密封和檢漏 o{y}c->  
    8. 薄膜制備技術(shù)8.1 常見薄膜制備技術(shù) '{AB{)1  
    9. 薄膜制備工藝9.1 薄膜制備工藝因素 Z