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    [推薦]線下課程——薄膜設(shè)計(jì)與鍍膜工藝(12月4~6日) [復(fù)制鏈接]

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    課程編號(hào)CS240016                                                                             uL{CUt  
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    時(shí)間地點(diǎn) ~JQ6V?fucD  
    Bwl@Muw  
    主辦單位:訊技光電科技(上海)有限公司;蘇州黌論教育咨詢有限公司 \2))c@@%  
    授課時(shí)間:2024年12月4 (三)-6(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 ey@ccc*sZ9  
    授課地點(diǎn):上海市嘉定區(qū)南翔銀翔路819號(hào)中暨大廈18樓1805室 {n\Ai3F-  
    課程講師:訊技光電高級(jí)工程師&資深顧問(wèn) 4$+1&+@ ]  
    課程費(fèi)用:4800RMB(課程包含課程材料費(fèi)、開(kāi)票稅金、午餐) < Dt/JA(p  
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    特邀專家介紹 XR_Gsb%l  
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    易葵:中國(guó)科學(xué)院上海光機(jī)所正高級(jí)工程師,主要從事光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)、制備工藝和測(cè)試相關(guān)方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空間激光薄膜、X射線多層膜、真空鍍膜技術(shù)與薄膜制備工藝研究等方面有較為深入的研究。獲得國(guó)家技術(shù)發(fā)明獎(jiǎng)二等獎(jiǎng)、上海市技術(shù)發(fā)明獎(jiǎng)一等獎(jiǎng)、上海市科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)、軍隊(duì)科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)等獎(jiǎng)項(xiàng),入選2014年度中科院“現(xiàn)有關(guān)鍵技術(shù)人才”。 4;*jE (  
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    課程簡(jiǎn)介 q ;"/i*+3  
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    隨著現(xiàn)代科技的飛速發(fā)展,光學(xué)薄膜的應(yīng)用越來(lái)越廣泛。光學(xué)薄膜的發(fā)展極大地促進(jìn)了現(xiàn)代光學(xué)儀器性能的提高,其種類非常廣泛,如增透膜,高反膜,分光膜,濾光片等,光學(xué)薄膜器件如今已經(jīng)廣泛應(yīng)用到光通信技術(shù)、光伏產(chǎn)業(yè)技術(shù)、激光技術(shù)、光刻技術(shù)、航空航天技術(shù)等諸多領(lǐng)域。本次課程第一天主要為國(guó)際知名的光學(xué)薄膜分析軟件Essential Macleod的使用,第二天為各種類型的光學(xué)薄膜的設(shè)計(jì)模擬方法,前兩天主講人為訊技光電高級(jí)工程師,第三天特別邀請(qǐng)上海光學(xué)精密機(jī)械研究所專家易葵,分享光學(xué)薄膜制備工藝、激光薄膜關(guān)鍵技術(shù)以及光學(xué)薄膜的測(cè)量方法等相關(guān)內(nèi)容。 fE"-W{M  
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    課程大綱 '*B%&QC-  
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    1. Essential Macleod軟件介紹1.1 介紹軟件 ;,/4Ry22j-  
    1.2 創(chuàng)建一個(gè)簡(jiǎn)單的設(shè)計(jì)1.3 繪圖和制表來(lái)表示性能 goe %'k,  
    1.4 通過(guò)剪貼板和文件導(dǎo)入導(dǎo)出數(shù)據(jù)1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) ]P/i}R:  
    1.6 特定設(shè)計(jì)的公式技術(shù)1.7 交互式繪圖 %xrldn%  
    2. 光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)2.1 垂直入射時(shí)的界面和薄膜特性計(jì)算 Ihp Ea,v)  
    2.2 后表面對(duì)光學(xué)薄膜特性的影響3. 材料管理 eLIZ<zzW0}  
    3.1 材料模型3.2 介質(zhì)薄膜光學(xué)常數(shù)的提取 x[=,$;o+  
    3.3 金屬薄膜光學(xué)常數(shù)的提取3.4 基板光學(xué)常數(shù)的提取 GkpYf~\Q  
    4. 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)優(yōu)化方法4.1 參考波長(zhǎng)與g y* :C~  
    4.2 四分之一規(guī)則4.3 導(dǎo)納與導(dǎo)納圖 iPdS>e e  
    4.4 斜入射光學(xué)導(dǎo)納4.5 光學(xué)薄膜設(shè)計(jì)的進(jìn)展  SQ&}18Z~  
    4.6 Macleod軟件的設(shè)計(jì)與優(yōu)化功能4.6.1 優(yōu)化目標(biāo)設(shè)置 $R%tD.d3  
    4.6.2 優(yōu)化方法(單一優(yōu)化,合成優(yōu)化,模擬退火法,共軛梯度法,準(zhǔn)牛頓法,針形優(yōu)化,差分演化法)4.6.3 膜層鎖定和鏈接 }9kn;rb$g  
    5. 光學(xué)薄膜系統(tǒng)設(shè)計(jì)與分析案例與應(yīng)用5.1 減反射薄膜 NvC