1.關(guān)于公差模擬 ^iRwwN=d • 公差
仿真的目的是為了研究制造和對齊公差對一個(gè)
光學(xué)系統(tǒng)性能的影響。
;A Gs1j • 單
參數(shù)的公差模擬沒有考慮多個(gè)不同參數(shù)之間的補(bǔ)償或放大效應(yīng)對系統(tǒng)性能的影響。
:8Ts'OGwI • VirtualLab Fusion的參數(shù)運(yùn)行文檔提供了幾種模式，允許對任意數(shù)量的參數(shù)進(jìn)行公差分析。
dN\P&"` \.;ct 2.參數(shù)變化的模式 R5&$h$[/ 為了在公差分析中考慮多個(gè)參數(shù)，可以使用以下方法：
l 3?,gd.- •
標(biāo)準(zhǔn)：基于設(shè)置的起始值和終止值，所以指定的參數(shù)以相同的步數(shù)進(jìn)行線性的變化。
p/WH#4Xdr • 編程：該模式允許任意形式的參數(shù)變化。
NQiecxvt= • 掃描：系統(tǒng)性檢查并生成所有的參數(shù)組合，一般需要耗費(fèi)大量的計(jì)算機(jī)內(nèi)存和時(shí)間。
b}&7~4zw • 隨機(jī)：蒙特卡羅模擬，即不同參數(shù)的隨機(jī)組合。如果僅僅進(jìn)行幾次迭代，那么僅能夠大概的了解系統(tǒng)的特性。之后可以進(jìn)行更多次的迭代來得到更有意義的結(jié)論。
_O )2 K*U=;*p ) 3. VirtualLab Fusion中的公差模擬 N'
$ DE • 上面描述的所有方法都可以由VirtualLab Fusion的參數(shù)運(yùn)行實(shí)現(xiàn)。
}d3N`TT • 這個(gè)案例使用了稍微修改過的案例LBS.001的
光束整形器系統(tǒng)，應(yīng)用單參數(shù)和蒙特.卡羅方法來對系統(tǒng)進(jìn)行公差分析。
Hl2f`GZ
w^rb|mKo 4.建模任務(wù) RTgA[O4J akvwApn5 
B#k3"vk# $mI:I m`s 分析系統(tǒng)的以下公差：
(o6[4( G <% 7P 
=SK+ \j$ [[?[? V , 5. 模擬對齊公差 1; Wkt9]9 UC+7-y, 
zJuRth)(, 2 ] DCF uVq5fT`B • 模擬元件的對齊公差必須在Stored Function元件的Position/Orientation標(biāo)題下選擇Isolated Positioning標(biāo)簽并勾選Use Isolated Translation以激活公差分析功能。
or%gTVZ • 公差值由Parameter Run進(jìn)行改變。在元件對話框中的值可以忽略。
2c"N-c&A #7~tL23}] 6.模擬刻蝕深度公差 %EVV-n@ TvWU[=4Yk 
pqH(
Tbjq vTMP&a'5L • 模擬掩膜刻蝕深度誤差必須在Stored Function元件的Function頁面中進(jìn)行激活。
i{|lsd(+ • 公差值必須由Parameter Run進(jìn)行改變。忽略元件對話框中的相關(guān)設(shè)置。
+Y5(hjE • 公差值1代表的是理想的刻蝕深度。
$d2kHT $h, &b<- 7. 單參數(shù)變化 *dG}R#9Nv u 5 Eo 
V A=#0w + U+a Wk •
激光光束半徑對光束整形系統(tǒng)的光學(xué)性能有強(qiáng)烈的影響。
OK
M\"A4 • Usage Mode（使用模式）：選擇Standard（標(biāo)準(zhǔn)）模式以改變單個(gè)參數(shù)。
zM_DE • 選擇腰束半徑X作為變化的參數(shù)。
2Ft8dfdm` H b
A3*2 
wuIsO;}/9 `i
