[討論]磁控濺射中，磁場(chǎng)該如何做最好的配置 [復(fù)制鏈接]

磁控濺射中，磁場(chǎng)該如何做最好的配置，因?yàn)槲覐S的靶材使用時(shí)，靶材利用率很差，靠近裡面打的厚、外圍就打的薄，請(qǐng)問到底磁鐵在配置時(shí)該如何做最佳配置，是否要研究磁力線分佈

此情況是屬在非平衡磁場(chǎng)的基礎(chǔ)上嚴(yán)重磁力分布不均。而且濺射靶材不宜過厚。

不是很明白

濺射靶材為何不宜過厚啊

非平衡磁控濺射的磁場(chǎng)本身就是不對(duì)稱分布，不管如何調(diào)整總會(huì)有一個(gè)有效濺射面積問題。由于磁場(chǎng)磁力線的分布，受到轟擊最充分的位置是在距離中心和邊緣均有一定距離的環(huán)形面上；把磁力線調(diào)整到能夠覆蓋靶面更大范圍可以提高一些靶材利用率，但效果有限。 Q(cLi:)X2  
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靶材厚度不宜做的太厚。因?yàn)榇艌?chǎng)分布的原因，濺射一段時(shí)間后靶面會(huì)形成一個(gè)環(huán)形凹槽，靶做的越厚利用率就越低（除去環(huán)形部分被濺射掉，中心部分和邊緣部分剩下的越多，浪費(fèi)越嚴(yán)重）

我也遇到此類問題,調(diào)整磁鐵相對(duì)于靶面的距離,來調(diào)整磁力線,可以改良這種情況

最好用專業(yè)的軟件來設(shè)計(jì)磁場(chǎng)分布，以確定磁鋼的大小、強(qiáng)度、位置和靶材的尺寸。我公司專業(yè)制造磁控濺射靶，材料利用率高，濺射穩(wěn)定。有問題可以直接聯(lián)系我，我們相互切磋dzmr.liu@126.com

我也知道怎么解決這個(gè)問題

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