面對競爭激烈的背光模組市場,因?yàn)殛P(guān)鍵零件如
光源、Film材的專利都掌握於少數(shù)美、日廠商中。所以臺灣廠商積極於提升導(dǎo)光板的提升光學(xué)效能與設(shè)計(jì)來進(jìn)降低對關(guān)鍵零件的依賴程度。
n+p }\msH XP}<N&j 目前市場上已有將集光片改為逆向的設(shè)計(jì)除能降低Bef數(shù)量外更能藉由底部V CUT的結(jié)構(gòu)提升產(chǎn)品之光學(xué)效能。因?yàn)槟媪忡R片的應(yīng)用理論不同於以往的BEF正菱鏡構(gòu)造,Mitsubishi Rayon提供的逆菱鏡結(jié)構(gòu)本身就有3-4種不同的角度設(shè)計(jì)。
}0 ?3:A }B^tL$k 右圖為單面網(wǎng)點(diǎn)及雙層集光片模組:該光學(xué)系統(tǒng)由3mm厚之導(dǎo)光版,4面框架,底部主反射片,單支CCFL光源構(gòu)成。外加2片3M Bef2增光film材構(gòu)成
|BYRe1l6l #K&Gp- SPEOS能夠輕易的將多種不同且大量的複雜微結(jié)構(gòu)建入不論是v形、梯形、圓柱形…的結(jié)構(gòu)都能靈活的定義,在工程師完成底部v cut 的設(shè)計(jì)與模擬之後。近一步將結(jié)果圖像化後轉(zhuǎn)入Auto
CAD或其他的佈點(diǎn)軟體,進(jìn)行網(wǎng)點(diǎn)的設(shè)計(jì)應(yīng)用點(diǎn)狀結(jié)構(gòu)將光域分佈進(jìn)行均勻化設(shè)計(jì)。讓工程師能有修改及設(shè)變的方向達(dá)到快速進(jìn)行結(jié)構(gòu)的光學(xué)設(shè)計(jì)、模擬。並縮短產(chǎn)品開發(fā)流程與降低高輝度背光模組的成本的要求。
O&&~NXI\ kf9X$d6 y>LBl] 上圖為V cut +上層網(wǎng)點(diǎn)+單層逆菱鏡片該光學(xué)系統(tǒng)由3mm厚之導(dǎo)光版,4面框架,底部主反射片,單支CCFL光源構(gòu)成。外加1片逆菱鏡增光film材構(gòu)成。
Lj7AZ|k 光場分佈比對:單面網(wǎng)點(diǎn)+雙層Bef 與vcut+網(wǎng)點(diǎn)+單層逆菱鏡片之光場比對。藍(lán)色為單面網(wǎng)點(diǎn)+雙層Bef,綠色為v cut+網(wǎng)點(diǎn)+單層逆菱鏡片。Vcut +上層網(wǎng)點(diǎn)+單層逆菱鏡片結(jié)構(gòu)之光場效能,較單面網(wǎng)點(diǎn)+2層bef增加20%。同時也不會造成可視角的縮小。