是鍍膜基質(zhì)表面的浮塵,我們用的設(shè)備沒(méi)有離子源,怎么在現(xiàn)有的基礎(chǔ)上,降低鍍膜機(jī)內(nèi)的灰塵?使灰塵在抽真空過(guò)程中不流動(dòng)起來(lái)呢?另外,我們鍍出來(lái)的產(chǎn)品不是全都點(diǎn)很多,而是一部分,分層數(shù)的,往往是頂部靠近公轉(zhuǎn)架那塊外觀很差,請(qǐng)問(wèn)各位大俠,這是什么原因,怎么解決呢 ?
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