MEMS的課程論文，寫(xiě)得比較認(rèn)真，希望對(duì)大家有用^_^ 傳上來(lái)掙點(diǎn)分…… cLZaQsS%
RTL A*
本文主要對(duì)具有代表性的三維結(jié)構(gòu)——針形陣列的多種制造工藝作出介紹。包括： wa)E.(x
1、移動(dòng)掩模深X射線光刻（Moving mask deep X-ray lithography,M2DXL）技術(shù) y3,'1^lA
2、改變X射線入射方向的二次曝光方法 MnQ4,+ji-
3、水平型正交橫截面技術(shù)（Plane-pattern to cross section transfer，PCT） wT taj08D
4、X射線灰色掩模技術(shù) 0sQt+_Dl%L
并對(duì)最新的制造方法：X射線灰色掩模（X-ray gray mask）光刻技術(shù)做詳細(xì)介紹。
